特許情報分析（パテントマップ）から見たエレクトロニクス分野へのダイヤモンド応用技術

１．調査目的：
　「エレクトロニクス分野へのダイヤモンド応用技術｣に関する公開件数、発明者、および特許分類などに対し、
時系列推移、技術分布図など様々な観点から分析し、ダイヤモンド及びダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）の
技術開発戦略（①一番乗り戦略、②ニッチ戦略、③リーダー戦略等）を策定する際、羅針盤の役割を果たせるよう種々のパテントマップを掲載した。
時代の趨勢を読み取り、あるいは自社の経営資源との彼我比較を行い、自社が取り巻く事業機会と脅威、
自社の強み、弱みを理解するための具体的データを提供し、今後の開発指針の決定に役立てようとするものである。
ダイヤモンド及びＤＬＣの応用分野全てに亘ると膨大な紙面となるので、本書では1993年～2011年に公開された「エレクトロニクス関連の特許公開公報」に限定して分析してみた。
２．特許情報の収集方法：
　本調査報告書は、「エレクトロニクス分野へのダイヤモンド応用技術」に関する過去9年間
（国内公開日：1993年1月～2011年12月）に及ぶ特許公開公報について、「特許検索ASPサービスSRPARTNER」
（（株）日立システムズ 製）を使用し、検索、収集した。また、報告書作成には、パテントマップ作成支援ソフト
「パテントマップEXZ」（インパテック（株）製）を使用した。
メインデータは特許公開公報の総数としてスクリーニングの結果得られた2,143件を対象に分析した。
３．報告書の構成：
本報告書は、次の4つの部分から構成されている。
A.　出願人分析
　　A-1.全出願人対象分析
　　A-2.特徴ある出願人のパテントマップによる探索
　　A-3.特徴ある出願人の分析：公開件数上位6位までの出願人の詳細分析
B. 出願人分析のまとめ
　　B-1.出願件数上位出願人のライフサイクルマップの比較
　　B-2.出願件数上位出願人の主要技術分野での時系列動向
　　B-3.出願人同士の技術分野の比較
　　B-4.出願件数上位出願人の参入技術分野集中度の比較
　　B-5.件数シェア上位出願人の変遷
　　B-6.直近3年間の公開件数が多い出願人
C.技術分野分析（Fターム分析）
　　C-1.パテントマップによる特徴ある技術分野の探索
　　C-2.公開件数上位6位までの技術分野の詳細分析
D.技術分野分析のまとめ
　　D-1.出願人上位テーマコードのライフサイクルマップの比較　
　　D-2.主要テーマコードのコリレ－ションマップ（テーマコードの同時付与割合）
　　D-3．ソニー、キヤノン、パナソニックの急激な公開件数減少の分析 測
４．本報告書の特徴
●　出願人分析、技術分野分析とも、先ず全体の状況を俯瞰して、その中から特徴ある出願人、技術分野を選択し、それらについての詳細分析を行う。
●　特徴ある出願人の「直近の主要公開公報」、公開件数の「伸長率が大きい技術分野」、「直近に参入した技術分野」の技術的内容を一瞥して理解できるように「公開公報番号」、「出願日」、「発明の名称」等を記載した公報リストを掲載している。
●　Fタームに関しては、単にマップ中に記載のFタームの説明だけでなく、関係している観点の全てのFタームを記載しているので当該技術分野の体系の中で、マップ中のFタームは全体のどこに位置する技術項目なのか、マップ中のFターム以外にはどんなものがあるか、等の横にらみ検討もできるようにした。　
【詳細】
はじめに
調査分析結果
A．出願人分析
　A-1　全出願人対象分析
　　A-1-1.　全出願人によるライフサイクルマップによる全体技術分野
　　A-1-2. 全出願人の時系列マップによる合計公開件数の俯瞰　　
　　　　(1) 全出願人の公開件数合計の推移
　A-2. 特徴ある出願人のパテントマップによる探索
　　A-2-1. 公開件数の多い出願人出願人別件数ランキングマップ
　　　　(1) 　出願人別件数推移時系列マップ
　　　　(2)　 出願人＊テーマコード　マトリクスマップによる参入分野
　　A-2-2. 公開件数の直近の伸長率が大きい出願人
　　　　(1) 出願人別公開件数の伸長率（その１：公開件数上位２０位まで）
　　　　(2) 出願人別件数グロスレイトマップ
　　A-2-3. 新規参入した出願人の分析
　　　　(1) 出願人別ニューエントリ・リタイアリマップ
　A-3. 特徴ある出願人の分析：公開件数上位６位までの出願人の詳細分析
　　A-3-1. 住友電気工業（１位）
　　　　(1)ライフサイクルマップによる技術開発経過
　　　　(2)Ｆターム別ランキングマップによる技術分野
　　　　(3)Ｆターム別件数推移時系列マップによる技術分野（テーマコード）別盛衰状況
　　　　(4)マップA-14の１位テーマコード（4G077：結晶、結晶のための後処理）の詳細分析
　　　　(5)マップA-14の２位テーマコード（4K030：CVD）の詳細分析
　　　　(6)マップA-14の３位テーマコード（5C135：冷陰極）の詳細分析
　　　　(7)マップA-14の4位テーマコード（5F045：気相成長（金属層を除く））の詳細分析
　　　　(8)マップA-14の５位テーマコード（4G146：炭素、炭素化合物）の詳細分析
　　　　(9)グロスレイトマップによる公開件数が伸びている技術分野
　　　　(10)ニューエントリ・リタイアリマップによる直近の参入技術分野
　　　　(11)ユニークデータマップによる住友電気工業の独自参入分野
　　A-3-2. 神戸製鋼所（２位）・・・以下、1位の住友電気工業と同様の詳細分析
　　A-3-3. パナソニック（３位）
　　A-3-4. ソニー（４位）
　　A-3-5. キヤノン（５位）
　　A-3-6. 産業技術総合研究所（６位）
B. 出願人分析のまとめ
　B-1. 出願件数上位出願人のライフサイクルマップの比較
　B-2. 出願件数上位出願人の主要技術分野での時系列動向
　　　　(1)4G077(結晶、結晶のための後処理)
　　　　(2)4K030（CVD）
　　　　(3)5C135(冷陰極)
　　　　(4)5F045（気相成長（金属層を除く））
　　　　(5)4G146（炭素、炭素化合物）
　　　　(6)4K029（物理蒸着）
　　　　(7)5C127（冷陰極の製造）
　　　　(8)F100(積層体(2))
　B-3. 出願人同士の技術分野の比較
　　B-3-1. 出願人＊Ｆターム（テーマコード）件数マトリクスマップによる競合状況
　　　　(1)住友電気工業と産業技術総合研究所の技術分野4G077（結晶、結晶の
　　 ための後処理）における技術項目比較
　B-4. 出願件数上位出願人の参入技術分野集中度の比較
　B-5. 件数シェア上位出願人の変遷
　　B-5-1. 区間集計分析
　　B-5-2. 区間累積集計分析
　B-6. 直近３年間の公開件数が多い出願人
C. 技術分野分析（Ｆターム分析）
　C-1. パテントマップによる特徴ある技術分野の探索
　　C-1-1. 公開件数が多い技術分野
　　　　(1)テーマコード別ランキングマップ
　　　　(2)テーマコード別件数推移時系列（累積年集計）マップ
　　　　(3)テーマコード別件数推移時系列（単年集計）マップ
　　C-1-2. 直近の公開件数伸長率が大きい技術分野
　　　　(1)テーマコード別公開件数の伸長率（その１：公開件数上位20位まで）
　　　　(2)Ｆターム（テーマコード）別件数グロスレイトマップ（その２：伸長率降順）
　　C-1-3. 出現時期が新しい技術分野の分析
　　　　(1)テーマコード別ニューエントリ・リタイアリマップ
　C-2. 公開件数上位６位までの技術分野の詳細分析
　　C-2-1. ランキング１位テーマコード４Ｇ０７７（結晶、結晶のための後処理）
　　　　(1)ライフサイクルマップによるライフサイクルポジション
　　　　(2)Ｆターム（深さ８）別ランキングマップによる技術観点
　　　　(3)Ｆターム（深さ８）別件数推移時系列マップ（累積年集計）による技術観点推移
　　　　(4)Ｆターム（深さ８）別件数推移時系列マップ（単年集計）による技術観点推移
　　　　(5)Ｆターム（深さ10）別ランキングマップによる技術分野
　　　　(6)Ｆターム（深さ10）別件数推移時系列マップによる技術分野推移
　　　　(7)Fタームの深さ10の観点内分析マップ
　　　　(8)Ｆターム（深さ10）＊出願人マトリクスマップによる出願人別強み、弱み
　　　　(9)Ｆターム別グロスランキングマップによる直近の伸び件数が大きい技術分野
　　　　(10)Ｆターム（深さ10）別ニューエントリ・リタイアリマップによる最新出現技術分野
　　C-2-2. ランキング２位テーマコード４Ｋ０３０（ＣＶＤ）
　　　　・・・以下、1位のテーマコードと同様の詳細分析
　　C-2-3. ランキング３位テーマコード５Ｃ１３５（冷陰極）
　　C-2-4. ランキング４位テーマコード５Ｆ０４５（気相成長（金属層を除く））
　　C-2-5. ランキング５位テーマコード４Ｇ１４６（炭素、炭素化合物）
　　C-2-6. ランキング６位テーマコード４Ｋ０２９（物理蒸着）
　　C-2-7. ランキング７位テーマコード５Ｃ１２７（冷陰極の製造）
　　C-2-8. 公開件数が多いにもかかわらず伸長率大のテ-マコード４Ｆ１００（積層体(2)）
D. 技術分野分析のまとめ
　D-1. 出願件数上位テーマコードのライフサイクルマップの比較
　D-2. 主要テーマコードのコリレーションマップ（テーマコードの同時付与割合）
　　　　(1) ４Ｇ０７７（結晶、結晶のための後処理）
　　　　(2) ４Ｋ０３０（ＣＶＤ）
　　　　(3) ５Ｃ１３５（冷陰極）
　　　　(4) ５Ｆ０４５（気相成長（金属層を除く））
　　　　(5) ４Ｇ１４６（炭素、炭素化合物）
　　　　(6) ４Ｋ０２９（物理蒸着）
　　　　(7) ５Ｃ１２７（冷陰極の製造）
　　　　(8) ４Ｆ１００（積層体(2)）
　D-3. ソニー、キヤノン、パナソニックの急激な公開件数減少の分析
　　D-3-1. 概要
　　　　(1)ソニー
　　　　(2)キヤノン
　　　　(3)パナソニック
　　D-3-2. 詳細分析
　　　　(1)分析対象期間の設定
　　　　(2)検索式
　　　　(3)検索式のＦターム決定のために参照したマップ
　　　　(4)出願人別分析
　　　　a．ソニー
　　　　a-1. 母集団別の公開件数動向比較
　　 　 a-2．グループ別の公開件数動向比較（無次元化比較）
　　　　a-3．グループ別の発明者数動向比較
　　　　a-4．グループ別の発明者数動向比較（無次元比較）
　　　　a-5．グループ別の発明者１人当たりの特許公開件数
　　 　a-6．公開件数上位発明者の研究分野間異動
　　　　a-7．出願件数伸長率の大きい技術分野（テーマコード）　　　　
　　　　b．パナソニック
　　　　c．キヤノン　・・・以下、a.ソニーと同様の分析