ライセンス・デューデリジェンスに関するポイントを基礎からじっくり学べます!

医薬ライセンスとデューデリジェンスの基礎講座 ~2日間セット~
第1回 医薬ライセンスの特殊性、交渉プロセスと化合物評価
第2回 多様なライセンスストラクチャーと契約書の作成、ライセンスリスク回避方法と医薬ライセンスの最近の傾向

※受付を終了しました。最新のセミナーはこちら

セミナー概要
略称
医薬ライセンス 2日間セット
セミナーNo.
160101
開催日時
2016年01月28日(木) 10:30~16:30
2016年02月24日(水) 10:30~16:30
主催
(株)R&D支援センター
問い合わせ
Tel:03-5857-4811 E-mail:info@rdsc.co.jp 問い合わせフォーム
開催場所
江東区産業会館 第1会議室
価格
非会員:  66,000円 (本体価格:60,000円)
会員:  60,500円 (本体価格:55,000円)
学生:  22,000円 (本体価格:20,000円)
価格関連備考
会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で64,800円(税込)から
 ★1名で申込の場合、59,400円(税込)へ割引になります。
 ★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計64,800円(2人目無料)です。
学校関係者価格は、企業に在籍されている研究員の方には適用されません。
定員
30名 ※現在、お申込み可能です。満席になり次第、募集を終了させていただきます。
備考
昼食・資料付き
講座の内容
習得できる知識
2回の講演を通じて

 1)医薬ライセンスの歴史と特殊性
 2)医薬ライセンスに関する基礎知識(用語とその本来の意味など)
 3)医薬ライセンス業務の流れと実務の進め方(失敗しないための交渉方法など)
 4)化合物評価と相場観(候補化合物の探索から秘密資料による再評価、デューデリジェンスまで)
 5)ライセンスストラクチャーの多様性と契約書の作成
 6)ライセンスリスクとその回避方法
 7)医薬ライセンスの最近の傾向(ライセンスフィーの考え方や包括的なライセンスなど)

   について基本的な知識や考え方から実務の進め方まで概説したいと思います。
趣旨
 国内製薬企業の医薬ライセンス部門の担当者は研究・開発部門を中心に製薬事業に関わる各部門から集められることが多いと思います。実際、ライセンス業務は製薬業務全般にわたっていますし、それぞれの部門に精通している人材が必要です。
 一方、多くの国内製薬企業のライセンス部門は欧米に比べて本格的な活動を始めてから日が浅く研修体制が整っていないところが多いように思います。社外のライセンス関連講座は比較的頻繁に行われているのでこれを利用することもできますが、大部分の講演会は時々のトピックスを取り上げる傾向が強く、ある程度実務経験を積んだライセンス担当者を対象にしているように思います。
 そこで、ここではライセンス部門に配属されてまだ日の浅い担当者を主な対象として医薬ライセンス全般にわたる講座にしたいと考えています。

 第1回では、医薬ライセンスの特殊性と基礎的な知識についてお話しします。また、実務では交渉プロセスと化合物評価を取り上げます。
交渉プロセスでは契約書締結の流れに沿って説明し、失敗しない交渉の進め方についてもお話したいと思います。化合物評価では候補化合物探索のための化合物評価から秘密資料による再評価、デューデリジェンスによる最終評価までの化合物評価全般について説明します。また、相場観についても触れたいと思います。

 第2回では、多様なライセンスストラクチャーと契約書への反映について説明します。また、ライセンスリスクとその回避方法や医薬ライセンスの最近の傾向も取り上げます。
契約書ではタームシートの作成から契約書各条項の意味や注意点についてライセンスストラクチャーと関連付けながら説明します。また、開発早期の化合物のライセンスが増えるにしたがって急激に高まっているライセンスリスクとその回避方法について事例を挙げて説明します。最後に医薬ライセンスの最近の傾向、特に、ライセンスフィーに対する考え方の変化やライセンスストラクチャーの多様化についてお話ししたいと思います。
プログラム
各日の詳細プログラムは、以下よりご高覧ください。

「第1回 医薬ライセンスの特殊性、交渉プロセスと化合物評価」は下記よりご覧ください。
https://www.rdsc.co.jp/seminar/160102

「第2回 多様なライセンスストラクチャーと契約書の作成、
     ライセンスリスク回避方法と医薬ライセンスの最近の傾向」
は下記よりご覧ください。
https://www.rdsc.co.jp/seminar/160201


お申込みについて
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