内部応力の発生原因と制御方法については詳細に解説!

スパッタリング法による薄膜作製の基礎と機械的性質の評価【大阪開催】

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セミナー概要
略称
スパッタリング【大阪開催】
セミナーNo.
160341
開催日時
2016年03月08日(火) 12:30~16:30
主催
(株)R&D支援センター
問い合わせ
Tel:03-5857-4811 E-mail:info@rdsc.co.jp 問い合わせフォーム
開催場所
大阪市立中央会館 2F 第4会議室
価格
非会員:  50,906円 (本体価格:46,278円)
会員:  48,125円 (本体価格:43,750円)
学生:  11,000円 (本体価格:10,000円)
価格関連備考
会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で49,980円(税込)から
 ★1名で申込の場合、47,250円(税込)へ割引になります。
 ★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,980円(2人目無料)です。
学校関係者価格は、企業に在籍されている研究員の方には適用されません。
定員
30名 ※現在、お申込み可能です。満席になり次第、募集を終了させていただきます。
備考
資料付き
講座の内容
受講対象・レベル
スパッタリングによる薄膜形成に携わることになった初心者からある程度の経験を経た方まで
習得できる知識
・スパッタリングによる薄膜形成の基礎知識
・薄膜の機械的性質の評価技術
・内部応力の発生メカニズムと対処方法
趣旨
スパッタプロセスによる薄膜形成の基礎知識を身につけて頂くとともに、スパッタ薄膜の機械的性質の評価技術について講義します。特に、実際のスパッタリングによる薄膜形成で問題になることの多い内部応力の発生原因と制御方法については詳細に解説します。
プログラム
1.スパッタリングによる薄膜成長の基礎
  1.1 直流スパッタリングと高周波スパッタリング:金属薄膜と絶縁体薄膜
  1.2 反応性スパッタリング:酸化物、窒化物などの化合物薄膜の形成
  1.3 非平衡マグネトロンスパッタリング:イオンアシストの利用
  1.4 どのように薄膜は形成されるのか:薄膜成長機構と膜構造
2.スパッタ薄膜の機械的性質の評価方法
  2.1 引張り強さとヤング率,硬さ
  2.2 内部応力
  2.3 密着力
3.スパッタ薄膜における内部応力発生のメカニズムとその制御
  3.1 内部応力の発生する原因
  3.2 種々のスパッタ薄膜の内部応力の実例
   a)反応性スパッタリング法によって作製した窒化物薄膜の内部応力
     b)非平衡マグネトロンスパッタリング法による薄膜の内部応力制御
4.まとめ
キーワード
蒸着,ターゲット,反応,プラズマ,硬度,研修,講習会
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