なぜ半導体洗浄が製品の信頼性関わる歩留に影響してくるのか・・・
洗浄技術の基礎から歩留改善のための技術について経験豊富な講師がわかりやすく解説します
１．序論－汚染が半導体デバイスに与える影響
1-0 クリーン化の重要性
1-1 金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル
1-2 分子汚染(NH3, アミン, 有機物, 酸性成分)
1-3 各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術
２．洗浄技術
2-1 RCA洗浄
2-2 各種洗浄液と洗浄メカニズム-薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄
2-3 洗浄プロセスの動向
2-4 最先端の洗浄技術とその問題点
３．その他の汚染制御技術
3-1 工場設計
3-2 ウェーハ保管、移送方法
４．次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
4-1 新洗浄乾燥技術(SCCO2洗浄乾燥, PK剤乾燥)
4-2 次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題
□質疑応答・名刺交換□