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５ＧやＡＩ対応で益々の高速・大容量・低電力・軽量・小型可が求められる半導体にEUVLが活用され始めた。
iPhone12を筆頭にＥＵＶＬを用いた製品も市場に続々と登場！ EUVL導入の効果とは？その技術の概要とは？

EUVリソグラフィ最新概論
EUVL 用材料・技術の進化と半導体製造の動向および展望【WEBセミナー】
～AI・５G時代を支える極端紫外線露光技術～

※受付を終了しました。最新のセミナーはこちら

セミナー概要
略称
EUVL【WEBセミナー】
セミナーNo.
st201222
開催日時
2020年12月21日（月） 10:30～16:30
主催
サイエンス＆テクノロジー（株）
問い合わせ
Tel：03-5857-4811　E-mail：info@rdsc.co.jp　問い合わせフォーム
開催場所
【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。　
価格
非会員：  35,200円 （本体価格：32,000円）
会員：  33,440円 （本体価格：30,400円）
学生：  35,200円 （本体価格：32,000円）
価格関連備考
定　価　：1名につき 35,200円（税込）
会員価格：1名につき 33,440円　2名の場合 49,500円、3名の場合 74,250円（税込）

※上記会員価格は受講者全員の会員登録が必須となります。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※受講券、請求書は、代表者に郵送いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
　(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。
備考
※資料付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。

【ZoomによるLive配信】
　・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
　・お申し込みの際は、接続確認用URL→ https://zoom.us/testにアクセスして
　　 接続できるか等ご確認下さい。
　・後日、別途視聴用のURLをメールにてご連絡申し上げます。
　・セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
　・リアルタイムで講師へのご質問も可能です。
　 ・タブレットやスマートフォンでも視聴できます。

・製本テキスト(開催日の4，5日前に発送予定)＋PDFテキスト(印刷不可)
　※セミナー資料はお申し込み時のご住所へ発送させていただきます。
　※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、
　　開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
※PDFテキストはマイページより任意でダウンロードいただきます。(開催の営業日2日前よりダウンロード可)
講座の内容
受講対象・レベル
レジスト・マスク・光源・検査装置等の要素技術開発に携わる企業。
数式等は一切なく、技術をVisualに説明する。
習得できる知識
国内外での半導体製造の実情。今後の半導体製造の動向。
EUVL用プラズマ光源・反射光学系・反射型マスク・レジスト材料・ステージなどの技術内容。
趣旨
Covid-19と米中貿易摩擦の煽りを受け、世の中全体に不景気感が広がっているが、iPhone 12の登場は本格的な５G世代の幕開けを宣言するに十分な効果をもたらした。とくに、AI対応での高速・大容量・低電力に加え、軽量・小型の実現には極端紫外線露光技術の寄与が大きい。ようやく、半導体素子の量産に使われ始めた本技術について詳述する。
プログラム

１．半導体製造の現状
　1.1 微細化の効果
　1.2 EUVLの概要と導入の効果
　1.3 EUVL導入例
　1.4 微細化の将来

２．極端紫外線露光の概要と歴史

３．個別技術の進展
　3.1 光源開発
　　　1) 要求性能
　　  2) LPP光源の現状と課題
　3.2 多層膜技術
　　  1) 多層膜の概要と設計法
　　  2) 多層膜の成膜技術
　　  3) 多層膜の評価
　3.3 反射光学系
　　  1) 反射光学系の要求条件
　　  2) 反射光学系の設計法
　　  3) ミラーの加工法と評価
　　  4) ミラー光学系の合わせ法
　3.4 反射型マスク技術
　    1) 反射型マスクの要求条件
　    2) マスクの構造と製作法
　    3) マスク検査技術
　3.5 EUVレジスト
　    1) EUVレジストの要求条件
　    2) レジストの現状
　3.6 ペリクル技術

４．次期システム・高NA機の開発概要

５．今後の課題
　　
　　□質疑応答□

キーワード
半導体製造技術、極端紫外線リソグラフィー、反射光学系、多層膜
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