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薄膜シリコントランジスタ、酸化物薄膜トランジスタの基礎知識から高性能化・高信頼性に向けた技術を解説！

薄膜トランジスタの基礎と高性能化・高信頼性化技術、最新動向【WEBセミナー】

※受付を終了しました。最新のセミナーはこちら

セミナー概要
略称
薄膜トランジスタ【WEBセミナー】
セミナーNo.
st210101
開催日時
2021年01月15日（金） 10:30～16:30
主催
サイエンス＆テクノロジー（株）
問い合わせ
Tel：03-5857-4811　E-mail：info@rdsc.co.jp　問い合わせフォーム
開催場所
【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。　
価格
非会員：  35,200円 （本体価格：32,000円）
会員：  33,440円 （本体価格：30,400円）
学生：  35,200円 （本体価格：32,000円）
価格関連備考
定　価　：1名につき 35,200円（税込）
会員価格：1名につき 33,440円　2名の場合 49,500円、3名の場合 74,250円（税込）

※上記会員価格は受講者全員の会員登録が必須となります。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※受講券、請求書は、代表者に郵送いたします。
※請求書および領収証は1名様ごとに発行可能です。
　(申込みフォームの通信欄に「請求書１名ごと発行」と記入ください。)
※他の割引は併用できません。
備考
※資料付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。

・Live配信受講：製本テキスト(開催前日着までを目安に発送)
※セミナー資料はお申し込み時のご住所へ発送させていただきます。
※開催日の4～5日前に発送します。開催前日の営業日の夕方までに届かない場合はお知らせください。
※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。

【ZoomによるLive配信】
　・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
　・お申し込みの際は、接続確認用URL(https://zoom.us/test)にアクセスして
　　 接続できるか等ご確認下さい。
　・後日、別途視聴用のURLをメールにてご連絡申し上げます。
　・セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
　・リアルタイムで講師へのご質問も可能です。
　 ・タブレットやスマートフォンでも視聴できます。
講座の内容
受講対象・レベル
半導体分野の初学者
※予備知識は不要です（高校の物理程度）。
習得できる知識
1. 薄膜形成技術
2. 薄膜評価技術
3. 薄膜トランジスタの動作原理
4. 薄膜トランジスタの評価技術
5. 薄膜トランジスタの応用技術
趣旨
　薄膜トランジスタ技術は、ディスプレイを始め、LSI、メモリー、センサーなど様々な分野においてその応用がますます広がっている。本講演では、薄膜形成技術の基礎と評価技術、シリコン薄膜トランジスタ、酸化物薄膜トランジスタにおける高性能化・高信頼性化技術について、詳しく説明する。また、真空プロセスに加えて、液体プロセスについてもその形成技術を紹介する。また、新たな応用分野についても、最新動向について説明する。
プログラム

1.はじめに

2.薄膜技術の基礎
　2.1 薄膜形成の物理
　2.2 薄膜形成技術
　2.3 薄膜の特長
　2.4 薄膜の評価技術
　2.5 薄膜の最新動向

3.薄膜トランジスタの動作原理

4.低温多結晶薄膜（LTPS）トランジスタ
　4.1 薄膜シリコンの結晶化技術
　4.2 薄膜トランジスタの歴史
　4.3 デバイス構造
　4.4 プロセス技術
　4.5 信頼性評価技術
　4.6 回路応用技術
　4.7.LTPS技術の最新動向

5.酸化物薄膜トランジスタ
　5.1 薄膜トランジスタの歴史
　5.2 酸化物薄膜の物理
　5.3 デバイス構造
　5.4 プロセス技術
　5.5 信頼性評価技術
　5.6 回路応用技術
　5.7.酸化物薄膜技術の最新動向

6.まとめと今後の課題

　□ 質疑応答 □

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