ナノシリコンの機能と最新応用動向

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セミナー概要
略称
ナノシリコン
セミナーNo.
stb151201
開催日時
2015年12月08日(火) 13:00~16:30
主催
S&T出版(株)
問い合わせ
Tel:03-5857-4811 E-mail:info@rdsc.co.jp 問い合わせフォーム
価格
非会員:  44,000円 (本体価格:40,000円)
会員:  41,759円 (本体価格:37,963円)
学生:  44,000円 (本体価格:40,000円)
価格関連備考
43,200円 案内会員価格 41,000円※資料代を含む
<1名様分の受講料で2名様まで受講できます。>
 ※2名様ご参加は同一会社・法人からの同時申込に限ります。
 ※2名様ご参加は2名様分の参加申込が必要です。ご連絡なく2名様のご参加はできません。
 ※3名様以上のご参加は、追加1名様あたり10,800円OFFになります。
講座の内容
習得できる知識
ポストスケーリング時代の到来とともに、半導体デバイスの開発に当たっては、新たな視点に基づく応用展開が不可欠になっている。 その事例として、量子サイズ領域で発現する機能に基づくシリコンテクノロジーを把握する。
趣旨
シリコンの微細化が進み量子効果が発現する領域(4.7nm以下)にまで達すると、シリコンの基本的性質を支配するバンドギャップが拡大し、 通常サイズでは見られない特性が現れる。それらを機能として制御し素子化に結びつける研究開発が多様な分野に拡大してきた。 ここでは、ナノシリコンの作製方法と物性変化について述べた後、光・電子・音響応用を中心に研究開発の状況を紹介する。
プログラム
1. ナノシリコンとは
 1.1 シリコンテクノロジーの流れ
 1.2 量子サイズ化によるシリコンの物性変化
 1.3 ナノシリコンの作製技術
 1.4 発現機能と応用の多様性

2. フォトニクス
 2.1 可視発光の機構と特性
 2.2 発光素子の開発状況
 2.3 光導電・光電変換などへの展開
 2.4 シリコンフォトニクスの動向

3. 弾道電子効果
 3.1 弾道電子の生成と放出
 3.2 真空中応用(並列一括露光、高感度撮像)
 3.3 気体中応用(負イオン生成、真空紫外光発生)
 3.4 溶液中応用(水素発生、固体薄膜堆積)

4. アコースティックス
 4.1 熱誘起音波発生の機構
 4.2 音響出力の広帯域性
 4.3 インパルス・デジタル駆動と応用
 4.4 小動物超音波交信機構の解析

5. まとめ
 5.1 シリコンデバイスの将来
 5.2 ナノシリコンの可能性
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