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１．ナノインプリント法の概要
1.1 ナノインプリントの歴史
1.2 ナノインプリントの特徴
1.3 ナノインプリントの材料・装置の要件
２．熱ナノインプリントの基礎
2.1 熱ナノインプリントの原理・特徴
2.2 樹脂の粘弾性と成型性
2.2.1 形状依存性
2.2.2 膜厚依存性
2.2.3 成形速度依存性
2.2.4 圧力依存性
2.3 残留応力と欠陥
2.3.1 応力集中と欠陥発生
2.3.2 プロセスシーケンスによる欠陥回避
2.3.3 多層構造による欠陥回避
2.3.4 分子量分散による欠陥回避
2.3 熱ナノインプリントプロセスの最適化
2.4 熱ナノインプリント用樹脂への要求項目
３．光(UV)ナノインプリントの基礎
3.1 光ナノインプリントの原理・特徴
3.2 樹脂の充填
3.2.1 バブル発生とその抑制
3.2.2 凝縮性ガスによるバブル解消
3.3 UV照射とパターンサイズ依存性
3.3.1 回折による欠陥誘発
3.3.2 干渉による欠陥誘発
3.3.3 パターンサイズ依存性
3.4 UV硬化の基礎と材料特性
3.4.1 UV硬化性樹脂(レジスト)の基本
3.4.2 UV硬化性樹脂(レジスト)の硬化特性
3.4.3 UV硬化性樹脂(レジスト)とプロセス設計
3.5 光ナノインプリント用樹脂(レジスト)への要求項目
４．多様な材料を用いたダイレクトナノインプリント
4.1 ガラス材料のナノインプリント
4.2 金属材料のナノインプリント
4.3 生分解樹脂のナノインプリント
4.4 有機半導体へのナノインプリント
4.5 セラミック材料へのナノインプリント
5．離型技術
5.1 離型の基本メカニズムと離型の実際
5.1.1 離型のメカニズムと樹脂の密着力，摩擦力
5.1.2 モールドの離型方法と離型性(垂直離型，傾斜離型，ピール離型，ロール離型)
5.1.3 モールド側壁傾斜角と離型性
5.1.4 モールド/樹脂の弾性率比と離型性
5.1.5 モールドと離型性
5.2 離型欠陥の低減と材料技術
5.2.1 離型剤による離型性改善
5.2.2 偏析剤による離型性改善
5.2.3 離型方法による離型性改善
5.2.4 熱ナノインプリントとUVナノインプリントの離型性
６．モールド技術
6.1 モールド作製の基礎
6.2 曲面モールドの作製
6.3 レプリカ作製と材料技術
6.3.1 Ni電鋳によるレプリカ作製
6.3.2 シリコンゴム材料によるレプリカ作製
6.3.3 シリカガラス系材料によるレプリカ作製
6.3.4 その他の方法と材料技術
7．樹脂の収縮
7.1 樹脂収縮の影響(熱収縮とUV収縮)
7.2 樹脂収縮予測と寸法精度
7.3 モールドの形状補正
8．ナノサイズ成型に向けての分子挙動
8.1 ナノインプリントの分子動力学解析
8.2 樹脂充填と分子挙動
8.3 成型と離型の分子量依存性
９．三次元構造の作製技術
9.1 リバーサル・ナノインプリントによる三次元積層構造の作製
9.1.1 リバーサル・ナノインプリントの原理
9.1.2 転写モードとリバーサルモード
9.1.3 リバーサル・ナノインプリントによる三次元積層構造の応用例
9.2 ハイブリッドナノインプリントによる三次元マイクロ・ナノ混在構造の作製
9.2.1 ハイブリッドナノインプリントの原理
9.2.2 ハイブリッドナノインプリントによるマイクロ・ナノ混在構造
9.2.3 三次元マイクロ・ナノ混在構造の応用例
１０．ナノインプリントの製品応用と最新動向
10.1 光デバイス、光学要素への応用
10.1.1 薄型マイクロレンズ
10.1.2 反射防止構造
10.1.3 メタサフェース 波長板
10.1.4 バーチャルリアリティ、拡張現実
10.1.5 構造色・モルフォブルー
10.2 バイオ・マイクロ流路デバイスへの応用
10.2.1 病理検査チップ
10.2.2 流体制御構造
10.3 半導体・電子デバイスへの応用
10.3.1 半導体メモリ
10.3.2 太陽電池
10.3.3 LEDなど
10.4 生体模倣構造(バイオミメティクス)への応用
10.4.1 撥水構造
10.4.2 吸着構造
10.4.3 流体制御
１１.装置技術
11.1 平板プレス型
11.2 ロールtoロール型
11.3 試作実験装置、汎用装置、専用装置の動向
１２．今後の展開と課題
12.1 これまでの研究動向、開発動向
12.2 最近の国際学会動向から
【質疑応答】