技術的テクニック、コツ、ノウハウからを事例を交えて解説！
※本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです。会場での参加はございません。
１．表面に支配される現代社会
1.1 膜・界面、そして、現代技術を支配する表面
1.2 表面・界面の重要性
２．表面とは
2.1 表面（薄膜）とは？
2.2 表面のかかわる代表的事象
2.3 表面の要素
2.4 表面における現象
2.5 代表的な表面処理
３．界面とは
3.1 界面における現象
3.2 多層膜による界面形成
3.3 薄膜化による界面の変化
４．表面・界面を支配するもの
4.1 界面形成
4.2 界面形成を支配する接着
4.3 界面を形成する力
4.4 表面・界面形成を支配するもの
4.5 表面・界面形成因子と評価法
4.6 表面を支配するには
５．表面分析成功のキーポイント
６．サンプルの取り扱い
７．代表的表面分析手法
８．表面分析の分類
8.1 表面分析に用いる主な手法と選び方
8.2 表面・微小部の代表的分析手法
8.3 手法の選択
９．接触角測定法
10．X線光電子分光法（ＸＰＳ，ＥＳＣＡ）
10.1 XPSの原理
10.2 XPSの検出深さ
10.3 装置構成例
10.4 XPSの特徴？
10.5 ワイドスキャン（サーベイスキャン）
10.6 ナロースキャン（代表的な元素）
10.7 元素同定
10.8 化学状態の同定
10.9 角度変化測定による深さ方向分析
10.10 チャージアップの影響と対応
10.11 化学状態による違い
10.12 チャージアップへの工夫
10.13 イオンエッチングダメージ
10.14 エッチング条件と効果
10.15 エッチング条件とスパッタレート
10.16 イオンエッチングによるクロスコンタミ
10.17 ちょっと便利なサイトやソフト
10.18 ハイブリッド分析
11．オージェ電子分光法（AES）
11.1 微小領域の元素分析手法
11.2 ＡＥＳの原理
11.3 装置構成例
11.4 ＡＥＳ測定例
11.5 界面拡散の分析 １
11.6 AESによる状態分析例
11.7 チャージアップ抑制
11.8 絶縁体上の異物
11.9 化学状態マッピング
11.10 XPSとAESの手法の比較
12．X線マイクロアナライザ（EPMA）
12.1 EPMAの原理
12.2 元素分布分析（被着体金属基板の断面）
12.3 積層膜の分析例
13．化学構造を知る
14．フーリエ変換赤外分光法（ＦＴ－ＩＲ）
14.1 赤外分光法（IR）の原理
14.2 FT-IRの長所・短所
14.3 測定法
14.4 周辺環境の影響
14.5 主な吸収帯
14.6 赤外分光の構造敏感性
14.7 指紋領域の利用
14.8 系統解析
14.9 帰属の考え方
14.10 全反射法（ATR法）
14.11 ATR法と検出深さ
14.12 ATR法における注意点
14.13 In-situ FT－IR
15．飛行時間型二次イオン質量分析法（TOF-SIMS）
15.1 ＳＩＭＳの概念
15.2 D-SIMSに用いられる質量分析法
15.3 TOF-SIMS装置の構成
15.4 TOF-SIMSの概要
15.5 TOF-MSの原理
15.6 TOF-SIMSによる化学構造解析
16．グロー放電分析（GD）
17．形態を知る
18．ＳＥＭ、ＴＥＭ
18.1 表面形状と組成
18.2 SEM－EDS組成分析
18.3 試験前後の比較
18.4 SEM観察例
18.5 試料作製法の比較
19．走査型プローブ顕微鏡（SPM）
19.1 SPMとは
19.2 主な走査型プローブ顕微鏡
19.3 形態観察におけるAFMの位置づけ
19.4 観察例
19.5 位相イメージングの例
19.6 位相像
20．界面分析
21．界面評価の重要性と課題
21.1 界面の例
21.2 界面の形成
21.3 界面の分類
21.4 界面における課題
21.5 界面分析の重要性
21.6 一般的深さ方向分析
21.7 従来法と問題点
21.8 化学増幅型レジストのD-SIMS分析
21.9 精密斜め切削法
21.10 斜面角度と深さ方向分解能
21.11 傾斜面の例
21.12 新しいアプローチ
22．解析の実例
23．ＵＶ照射による化学構造の評価
24．表面構造変化の解析（XPS）
25．気相化学修飾法
26．化学修飾法を用いたTOFイメージング
27．ポリイミドの表面処理層の深さ方向分析
28．ＰＩ／Ｃu／Ｓi界面の解析
29．まとめ
30．質疑