2017年12月12日（火）
12:30～16:30
Tel：03-5857-4811 E-mail：info@rdsc.co.jp
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非会員：
44,000円
（本体価格：40,000円）
会員：
41,800円
（本体価格：38,000円）
学生：
44,000円
（本体価格：40,000円）
43,200円 (会員受講料 41,040円 )
定価：本体40,000円＋税3,200円
会員：本体38,000円＋税3,040円
【2名同時申込みで1名分無料（１名あたり定価半額の21,600円）】
※2名様とも会員登録をしていただいた場合に限ります。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※3名様以上のお申込みの場合、上記１名あたりの金額で追加受講できます。
※受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
※資料付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※講義中のパソコン使用はキーボードの打音などでご遠慮いただく場合がございます。
・機能膜作製プロセス
・大気圧・非真空プロセス
・溶液プロセス
・ミストCVD
・電子デバイス(ディスプレイ・センサー･スイッチング素子･発光素子･量子素子)
・コーティング(不動態膜･透明導電膜)
・組成制御
大気圧下で大面積にわたり高品質な機能膜を形成するための技術として開発してきたミストCVDに関して、経緯、歴史、作製膜の特性、デバイス、ミストCVDに関する物理、次世代へ向けた開発の方向性等、詳しく説明します。
第1部 ミストCVD技術の開発初期
１．緒言
1.1 自己紹介
1.2 高知工科大学について
1.3 総合研究所について
２．機能膜作製技術の現状とこれからの開発ポイント
2.1 どういった物に利用されているのか
2.2 それらを作製するシステムの大きさやコストについて
2.3 省エネプロセスの必要性とそれが達成されない理由
2.4 大気圧下で対象とする機能膜を形成する為のポイント
３．ミストを利用した機能膜形成技術「ミストCVD」の特徴
3.1 ミスト法とは
3.2 一般の成膜法とミストCVD法の立場
3.3 超音波噴霧を利用した機能膜形成技術の歴史
４．原料供給手段に超音波噴霧を利用する利点
4.1 各種液滴の発生法
4.2 一般環境下で薄膜を形成するために適した液滴発生法とは
５．ミスト流を用いた機能膜作製システムの装置群
5.1 ミスト流を用いた機能膜作製システム群
5.2 原料供給器
5.3 成膜反応装置周囲の基本システム
６．ミストCVDの物理１
6.1 均質膜を作製する為の３つの手段
6.2 液滴のライデンフロスト状態
第2部 ミストCVD技術の応用と発展
７．ファインチャネル(FC)システムvsホットウォール(HW)システム
7.1 解析構造・条件
7.2 結果
８．ミストCVDで作製出来る機能膜
8.1 これまでに形成できた薄膜種
8.2 酸化亜鉛系(ZnO)
8.3 酸化ガリウム系(Ga2O3)
8.4 酸化アルミニウム(AlOx)
8.5 酸化インジウムガリウム亜鉛(IGZO)
8.6 有機膜
8.7 層状硫化モリブデン(MoS2)
8.8 その他
９．ミストCVDで作製したデバイス
9.1 大気圧手法により作製された酸化物TFTの現状
9.2 ミストCVDによるIGZO TFTの作製
9.3 特性および最適化
9.4 組成比による特性の差
１０．ミストCVDによる量子素子の作製とその特徴
10.1 大気圧下で量子井戸が形成できる理由
10.2 作製した量子井戸の特徴
１１．ミストCVDの物理２
11.1 ミスト同士は衝突しない
11.2 複合反応の抑制
11.3 組成制御技術
１２．まとめ
12.1 まとめ
12.2 ミストCVDの可能性
