★ 大きな注目を最先端半導体プロセス:ドライエッチング、ALE、ALD、プラズマCVD、DXまで徹底解説!

ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング(ALE)の最新技術動向【WEBセミナー】
~最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術~

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セミナー概要
略称
ドライエッチングとALE【WEBセミナー】
セミナーNo.
st210815
開催日時
2021年08月30日(月) 10:30~16:30
主催
サイエンス&テクノロジー(株)
問い合わせ
Tel:03-5857-4811 E-mail:info@rdsc.co.jp 問い合わせフォーム
価格
非会員:  35,200円 (本体価格:32,000円)
会員:  33,440円 (本体価格:30,400円)
学生:  35,200円 (本体価格:32,000円)
価格関連備考
定 価 :1名につき 35,200円(税込)
会員価格:1名につき 33,440円 2名の場合 49,500円、3名の場合 74,250円(税込)

※上記会員価格は受講者全員の会員登録が必須となります。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※他の割引は併用できません。
※セミナー請求書は代表者のメールアドレスにPDFデータを添付しお送りいたします。
備考
※資料付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

【ライブ配信(Zoom使用)セミナー】
・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
 PCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
・お申し込み後、接続確認用URL(https://zoom.us/test)にアクセスして接続できるか等ご確認下さい。
・後日、別途視聴用のURLをメールにてご連絡申し上げます。
・セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
・セミナー中、講師へのご質問が可能です。
講座の内容
習得できる知識
1.プラズマプロセスの基礎知識
2.ドライエッチングの基礎知識
3.原子層エッチング(ALE)の基礎知識と最新技術動向
趣旨
 本講座では、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング(ALE)技術について、表面反応機構から最新技術動向までを詳しく紹介する。関連項目として、プラズマCVDと原子層堆積(ALD)プロセス、および、現在進行しつつあるプロセス開発におけるデジタル・トランスフォーメーション(DX)の最新研究動向についても、概要を紹介する。プラズマプロセスの初心者でも聴講できる講義内容を目指す。
プログラム

1.背景

2.プラズマ科学の基礎

3.代表的なプラズマプロセス装置

4.反応性イオンエッチング(RIE)の基礎
 4.1 プラズマ表面相互作用
 4.2 表面帯電効果
 4.3 シリコン系材料エッチング反応機構
 4.4 金属・金属酸化物材料エッチング反応機構
 4.5 高アスペクト比(HAR)エッチング概要

5.プラズマCVD概要:原子層堆積(ALD)の基礎として

6.ALDプロセスの概要:原子層エッチング(ALE)の逆過程として
 6.1 熱ALD
 6.2 プラズマ支援(PA-)ALD

7.ALEプロセスの概要と最新技術動向
 7.1 PA-ALE
 7.2 熱ALE:リガンド交換
 7.3 熱ALE:金属錯体形成

8.半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション(DX)
 8.1 プロセス数値シミュレーションとTCAD(technical computer aided design)
 8.2 仮想計測(VM)とプロセス装置制御
 8.3 マテリアルズ・インフォマティクス
 8.4 プロセス開発における機械学習(ML)・AIの活用

9.まとめ

  □質疑応答□

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