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ALD技術の基礎を最先端半導体デバイスの応用事例を用いて、徹底的に解説!

ALD(原子層堆積)技術の基礎と応用【LIVE配信】

※本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです。会場での参加はございません。

セミナー修了後、受講者のみご覧いただける期間限定のアーカイブ配信を予定しております。

セミナー概要

略称
ALD【WEBセミナー】
セミナーNo.
開催日時
2020年12月24日(木)12:30~16:30
主催
(株)R&D支援センター
問い合わせ
Tel:03-5857-4811 E-mail:info@rdsc.co.jp 問い合わせフォーム
開催場所
【WEB限定セミナー】※在宅、会社にいながらセミナーを受けられます 
講師
奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究領域 
情報機能素子科学研究室 教授 博士(工学)浦岡 行治 氏
【専門】
半導体プロセス・デバイス
【活動】
応用物理学会フェロー
IEEEシニアー
AMFPD国際会議実行委員長
薄膜材料デバイス研究会組織委員
価格
非会員: 49,500円(税込)
会員: 46,200円(税込)
学生: 49,500円(税込)
価格関連備考
会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で49,500円(税込)から
 ★1名で申込の場合、46,200円(税込)へ割引になります。
 ★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,500円(2人目無料)です。
■ 会員登録とは? ⇒ よくある質問
定員
30名 ※現在、お申込み可能です。満席になり次第、募集を終了させていただきます。
備考
資料付【PDF配布】

【LIVE配信セミナーとは?】
・本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
・「ミーティング用Zoomクライアント」をダウンロードするか、ZOOM を
  ダウンロードせず、Web ブラウザから参加するかの2種類がございます。
  ZOOM WEBセミナーのはじめかたをご覧ください。

・お申込み後、受理のご連絡メールをさせていただきます。
 一部メールが通常セミナー形式(受講券、請求書、会場の地図)になっておりますが
 LIVE配信のみのセミナーです。
・お申込み後、接続テスト用のURL(https://zoom.us/test)から
「ミーティングテストに参加」を押していただき動作確認をお願いします。
・後日、別途視聴用のURLをメールにてご連絡申し上げます。
・セミナー開催日時の10分前に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
・セミナー資料はPDFを前日までには、お送りいたします。
・ご質問については、オープンにできるご質問をチャットにご記入ください。
 個別相談(他社に知られたくない)のご質問は後日メールにて講師と直接お願いします。
・タブレットやスマートフォンでも視聴できます。
・講義の録音、録画などの行為や、テキスト資料、講演データの権利者の許可なく
 複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。

講座の内容

受講対象・レベル
初学者向け
これから、ALD技術の導入を検討している技術者にむけて、堆積原理と応用技術を概説する。
習得できる知識
・ALD技術の基礎
・薄膜形成、評価技術の基礎
・薄膜を使った半導体デバイスの動作原理
趣旨
AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、太陽電池などのエレクトロニクスの分野で広く活用されてきた。本セミナーでは、近年、特に注目を浴びているALD(原子層堆積)技術について、その基礎と応用について概説する。特に、堆積の原理や材料について詳しく紹介する。また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介する。
プログラム
1.薄膜形成技術
  1.1 薄膜作製の基礎
  1.2 薄膜の評価手法
   1.2.1 電気的評価
   1.2.2 化学的分析手法
   1.2.3 光学的評価手法
2.ALD技術の基礎
  2.1 ALD技術の原理
  2.2 ALD薄膜の特長
  2.3 ALD技術の歴史
  2.4 ALD装置の仕組み
  2.5 ALD技術の材料
3.ALD技術の応用
  3.1 パワーデバイスへの応用
  3.2 酸化物薄膜トランジスへの応用
  3.3 MOS LSIへの応用
4.ALD技術の将来
  4.1 ALD技術の課題
  4.2 ALD技術の展望
キーワード
パワーエレクトロニクス,ALD,Atomic Layer Deposition,原子層

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