レジスト材料・プロセスの最適化ノウハウとトラブル対策【LIVE配信】

※本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです。会場での参加はございません。

※新型コロナウイルスの影響で、通常セミナーからLIVE配信に変更しました。4/14UP

１．レジスト・リソグラフィ産業の発展
　　1-1　レジスト材料の高品質化（市場競争力を向上するには）
　　　（高感度、高解像、LWR/LER、耐劣化性、高純度化＜1ppb、低欠陥）
　　1-2　レジストユーザーの導入基準とは（デバイスメーカーの認証評価）
　　　（基本性能評価、Open/Short評価、デバイス信頼性評価、量産適用性）
２．リソグラフィプロセスの基礎(これだけは習得しておきたい)
　　2-1　レジスト材料／プロセスの最適化
　　（プロセスフロー、レジスト材料、ポジ型／ネガ型の選択基準、光化学反応メカニズム、
　　　　　　　パターン現像、PEB、TARC/BARC、厚膜レジスト、平坦化、界面活性剤）
　　2-2　露光描画技術の最適化
　　（露光システム、レイリ―の式、解像力、焦点深度、液浸露光、重ね合わせ技術）
　　2-2　レジストコントラストで制御する
　　（光学像コントラスト、残膜曲線、溶解コントラスト、
　　　　　　　　　　　　　　　　現像コントラスト、パターン断面形状改善）
　　2-3　エッチングマスクとしてのレジスト
　　（プラズマとは、等方性/異方性エッチング、RIE、エッチング残さ、
　　　　ローディング効果、選択比、ウェットエッチング、レジスト浸透と膨潤）
３．先端および応用技術
　　3-1　EUV技術と延命化プロセス
　　（EUV、k1<0.25の実現、位相シフト、液浸、ダブル／マルチパターニング技術、
　　　　　　　　　　　　　　　LELE型、スペーサ／サイドウォール型、多層レジスト）
　　3-2　レジスト支援プロセス
　　（ペリクル、イメージリバーサル、表面難溶化プロセス、光造形、ナノインプリント）
　　3-3　プリント基板、ソルダーレジスト技術
　　　（5G対応プリント基板技術、DFR/メッキプロセス、耐はんだ性）
　　3-4　シミュレーション技術(効果的な技術予測)
　　　（レジスト形状、ノズル塗布、スピンコート、パターン内3次元応力解析）
４．レジスト処理装置の要点（プロセス制御の重点ポイントとは）
　　4-1　処理装置に求められる要因
　　（高精度化、タクトタイム、清浄度、二次汚染、温度管理）
　　4-2　コーティング
　　（スピン、スキャン、ディップ、DFRラミネータ、ストリーエーション対策）
　　4-3　現像
　　（TMAHの低濃度化、ディップ、パドル、スプレー、バブル欠陥、ウォータマーク）
　　4-4　乾燥ベーキング
　　（ホット、クール、オーブン、減圧）
　　4-5　シランカップリング処理
　　（バブラー、疎水化ベーク、評価法）
　　4-6　レジスト除去
　　（ドライ/ウェット、処理液、残渣除去、物理除去）
５．レジスト異物欠陥対策（歩留り向上の最優先対策とは）
　　5-1　致命欠陥とは
　　（配線上異物、ショート欠陥、バブル欠陥、塗布ミスト、接触異物）
　　5-2　プロセス欠陥と対策
　　（乾燥むら、ベナールセル、環境応力亀裂、ピンホール、膜はがれ）
　　5-3　フィルタリング
　　（フィルタリング機構、発塵対策、バブル対策）
　　5-4　欠陥計測法
　　（o/s法、光散乱法、AFM法、ゼータ電位法）
６．パターン剥離と対策(付着マージンの確保には)
　　6-1　剥離メカニズムとは
　　（付着促進要因と剥離加速要因、検査用パターン、付着力測定方法(DPAT法)）
　　6-2　付着促進要因とは
　　 (分子間相互作用とは、表面エネルギー、表面処理)
　　6-3　表面エネルギーによる付着性予測
　　(付着エネルギーWa, 拡張エネルギーSとは)
　　6-4　過剰なHMDS処理はレジスト膜の付着性を低下させる
　　（最適な処理温度と処理時間）
　　6-5　剥離加速要因とは
　　（応力/歪み、毛管力、熱変形、WBL）
　　6-6　乾燥プロセスでのパターン剥離を検証する
　　（毛細管現象、パターン間メニスカス、エアートンネル）
　　6-7　レジスト膜の応力をin-situ測定する
　　（減圧処理、応力緩和と発生、溶剤乾燥、拡散モデル）
　　6-8　パターン凸部は凹部よりも剥離しやすい
　　（アンダーカット形状、応力集中効果、表面硬化層）
　　6-9　Al膜上でのレジスト付着不良と解決方法
　　（親水化、疎水化処理、酸化被膜形成、WBL）
７．レジストパターンの高精度化と高品位化
　　7-1　高分子ナノ凝集体の物性とコントロール
　　（集合体分離、ナノ空間、ナノラフネス）
　　7-2　LER/LWR
　　（表面難溶化層、側面粗さ）
　　7-3　パターン熱だれ・変形対策
　　（樹脂の軟化点、パターン形状依存性、体積効果、DUVキュア）
　　7-4　CLSM法によるレジスト現像過程の解析
　　（レジスト溶解挙動のリアルタイム解析）
８．質疑応答、技術開発および各種トラブル相談
　（日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます）