ALD技術の基礎を最先端半導体デバイスの応用事例を用いて、徹底的に解説!
1.薄膜形成技術
1.1 薄膜作製の基礎
1.2 薄膜の評価手法
1.2.1 電気的評価
1.2.2 化学的分析手法
1.2.3 光学的評価手法
2.ALD技術の基礎
2.1 ALD技術の原理
2.2 ALD薄膜の特長
2.3 ALD技術の歴史
2.4 ALD装置の仕組み
2.5 ALD技術の材料
3.ALD技術の応用
3.1 パワーデバイスへの応用
3.2 酸化物薄膜トランジスへの応用
3.3 MOS LSIへの応用
4.ALD技術の将来
4.1 ALD技術の課題
4.2 ALD技術の展望