水の動きを一つの軸として、半導体洗浄が直感でわかるようになる！
基礎現象の理解から困った時の対策までの考え方を1日で説明します！
※本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです。会場での参加はございません。
◆受講者限定で見逃し配信（1週間：何度でも視聴可）を予定しております。
※日程が変更になりました。（3/17更新）
3月24日 → 7月21日（金）
※プログラム等が一部変更になりました。（3/22更新）
１． 洗う理由：汚れは何？いつ、どこからなぜやって来る？
２． 洗浄の４要素（温度、時間、化学、力学）：力学が最も大切である理由
３． 半導体の洗浄に特有のこと（洗浄で実現したい状態）
４． 先端技術情報（半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会）
５． 半導体洗浄の基礎現象（薬液と流れの効果）
5-1. 化学で汚れを動かす操作：薬液の働き（付着・脱離・引き剥がす）と乾燥
5-2. 力学で汚れを動かす操作：流れ、熱、拡散
5-3. 装置内流れの種類（完全混合、押出流れ、境界層）
5-4. 流れの可視化観察（「流れ」と「拡散」の感覚を動画で）
６． 洗浄機内の流れと反応
6-1. 枚葉式洗浄機
（１）水の流れの実例（実機の観察動画とシミュレーションの例）
（２）ノズルのスイングを続ける工学的理由
（３）化学反応の例（表面反応もここまで分かる）
6-2. バッチ式洗浄機
（１）水の流れの実例（実機の観察動画とシミュレーションの例）
（２）水流を低コストで最適化した事例（入口と出口を変える）
6-3. 超音波の働き
（１）水と気泡の動きの実例（実機の観察動画）
７． 洗浄結果の評価方法
８． 狭い空間の洗浄（盲点と工夫）
９． まとめ：困った時の視点と対策（境界層を壊そう！）
【質疑応答】