トラブル相談・技術開発相談にも応じます!

半導体プロセス技術の基礎とノウハウおよびトラブル対策【LIVE配信】

※本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです。会場での参加はございません。
セミナー修了後、受講者のみご覧いただける期間限定のアーカイブ配信を予定しております。

※受付を終了しました。最新のセミナーはこちら

セミナー概要
略称
半導体プロセス【WEBセミナー】
セミナーNo.
231029
開催日時
2023年10月20日(金) 13:00~16:30
主催
(株)R&D支援センター
問い合わせ
Tel:03-5857-4811 E-mail:info@rdsc.co.jp 問い合わせフォーム
価格
非会員:  49,500円 (本体価格:45,000円)
会員:  46,200円 (本体価格:42,000円)
学生:  49,500円 (本体価格:45,000円)
価格関連備考
会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で49,500円(税込)から
 ★1名で申込の場合、46,200円(税込)へ割引になります。
 ★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,500円(2人目無料)です。
 ★3名以上同時申込は1名につき247,500円(税込)です。
会員登録とは?⇒よくある質問
定員
30名 ※現在、お申込み可能です。満席になり次第、募集を終了させていただきます。
備考
資料付【PDFにて配布いたします】

【Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順】
1)Zoomを使用されたことがない方は、こちらからミーティング用Zoomクライアントを
  ダウンロードしてください。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。
2)セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。Zoom WEBセミナーのはじめかたに
  ついてはこちらをご覧ください。
3)開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始
  10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加
  ください。
・セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
 無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。
講座の内容
受講対象・レベル
半導体デバイスに関わる技術者、製造装置、素材、材料分野の技術者、半導体プロセス分野の技術管理および設計担当者、デバイスプロセスの基本学習希望者
必要な予備知識
半導体の基礎、および物理化学の基礎
趣旨
 近年、世界の半導体市場は急速に拡大しており、我国でも国家戦略的な重要産業として位置づけられています。また、高機能デバイスの製造プロセスには、高い技術水準と競争力が求められています。これらのプロセス技術の基礎を幅広く理解することにより、各種トラブルへの対処および効率的な技術開発が可能となり、歩留まり改善や生産性向上へと繋がると考えます。本セミナーでは、半導体デバイス製造に携わる技術者の方々を対象に、各基本プロセスの主要技術や最適化事例について概説します。初めて半導体プロセスに関わる方々の入門講座としても適しています。本セミナーでは、受講者の方々の日頃のトラブル相談・技術開発相談にも応じます。
プログラム

1.各種半導体デバイスの基礎(半導体産業の特徴、各種デバイス概論)
2.デバイス加工の最適化(回路設計、シフト量)
3.半導体基板(単結晶、多結晶、薄膜)
4.前処理(クリーンネス、RCA洗浄)
5.酸化(Deal-Grove理論、酸化種)
6.不純物導入(拡散法、イオン注入法)
7.薄膜形成(めっき、蒸着、スパッタ、LP-CVD)
8.リソグラフィー(レジスト技術、ウエット/ドライエッチング)
9.配線技術(多層配線、マイグレーション)
10.保護膜形成(CMP技術、透湿性)
11.実装技術(Pbフリーはんだ、ワイヤーボンディング)
12.パッシベーション(セラミック、モールド)
13.信頼性評価(活性化エネルギー、寿命評価)
14.クリーンルーム管理(浮遊微粒子、動線制御)
15.プロセスシミュレーション(コーティング、気流、応力集中、電流分布など)
16.製造ライン管理の実際(タクトタイム、歩留まり、月産量見積もり、コスト計算など)
17.質疑応答(日頃のトラブル・研究開発相談にも応じます)

参考資料
 ・塗膜トラブルQ&A事例集(トラブルの最短解決ノウハウ)
 ・表面エネルギーによる濡れ・付着性解析(測定方法)

キーワード
半導体プロセス,基板,クリーン化,微細加工,成膜,配線技術,WEBセミナー,オンライン
関連するセミナー
関連する書籍
関連するDVD
関連するタグ
フリーワード検索