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近年、大きな注目を集めている微細CMOS技術の基礎となるMOSトランジスタの基本動作原理と今後の動向を分かりやすく解説！

半導体デバイス入門講座【LIVE配信】

※本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです。会場での参加はございません。
【アーカイブ配信：1/24～2/7（何度でも受講可能）】の視聴を希望される方は、こちらからお申し込み下さい。

※受付を終了しました。最新のセミナーはこちら

セミナー概要
略称
半導体デバイス【WEBセミナー】
セミナーNo.
240136
開催日時
2024年01月23日（火） 10:30～16:30
主催
（株）Ｒ＆Ｄ支援センター
問い合わせ
Tel：03-5857-4811　E-mail：info@rdsc.co.jp　問い合わせフォーム
開催場所
【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。　
価格
非会員：  55,000円 （本体価格：50,000円）
会員：  49,500円 （本体価格：45,000円）
学生：  55,000円 （本体価格：50,000円）
価格関連備考
会員（案内）登録していただいた場合、通常1名様申込で55,000円（税込）から
　★1名で申込の場合、49,500円（税込）へ割引になります。
　★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計55,000円（2人目無料）です。
　★3名以上同時申込は1名につき27,500円（税込）です。
会員登録とは？⇒よくある質問
定員
30名　※現在、お申込み可能です。満席になり次第、募集を終了させていただきます。
備考
資料付【PDFを配布いたします】

【Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順】
１）Zoomを使用されたことがない方は、こちらからミーティング用Zoomクライアントを
　　ダウンロードしてください。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。
２）セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。Zoom WEBセミナーのはじめかたに
　　ついてはこちらをご覧ください。
３）開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始
　　10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加
　　ください。

・セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
　無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。
講座の内容
受講対象・レベル
・業務に活かすため、半導体デバイスやMOSトランジスタ、集積回路についての知見を得たいと考えている方
・半導体集積化技術の将来像にご興味のある方
習得できる知識
・半導体物性の基礎
・MOSトランジスタの構造と動作原理
・MOSトランジスタの微細化手法
・MOSトランジスタの作製方法の基礎
・近年の微細トランジスタ高性能化技術の概要
・今後のMOSトランジスタの発展の方向性
など
趣旨
　半導体産業は、IT機器を支える基幹産業としてAI/DX社会実現の主導的役割を果たすと考えられるようになり、経済安全保障の観点からも高い注目が集まっている。この半導体集積回路の基本となるデバイスが、MOSトランジスタであることから、その進化の道筋を追うことで、現在および将来の集積回路の方向性を理解することができる。本セミナーでは、半導体の基本的性質から始めて、MOSトランジスタの構造と動作原理、微細化の基本的考え方、作製プロセスの基礎、性能向上のための工夫、将来の技術発展の方向性について、最新の研究開発状況にも触れながら、解説する。
プログラム

１．半導体産業の重要性
　　1-1　半導体の応用分野と将来性
　　1-2　半導体製品の種類
２．半導体の基礎
　　2-1　半導体の特徴
　　2-2　半導体中の電気伝導と移動度
　　2-3　n型半導体とp型半導体
　　2-4　pn接合と空乏層
３．MOSトランジスタの動作原理
　　3-1　MOSトランジスタの動作原理
　　3-2　MOS構造のバンド図
　　3-3　反転状態と閾値電圧
　　3-4　MOSトランジスタの電流-電圧特性
４．MOSトランジスタを用いた論理計算
５．MOSトランジスタの微細化とムーアの法則
　　5-1　集積回路のコンセプトとムーアの法則
　　5-3　MOSトランジスタのスケーリング則
６．MOSトランジスタの作製方法
７．MOSトランジスタ微細化の制限要因と改良技術
　　7-1　ゲート絶縁膜の薄膜化限界とhigh k絶縁膜
　　7-2　短チャネル効果と立体構造トランジスタ
　　7-3　チャネル移動度向上技術
８．MOSトランジスタ高集積化の現状と今後の動向
　　8-1　テクノロジーノードとロードマップ
　　8-2　三次元集積化

キーワード
半導体,動向,MOSFET,成膜,オンライン,WEBセミナー
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