セミナー概要

略称

半導体デバイス【アーカイブ配信】

セミナーNo.

240136A

配信開始日

2024年01月24日（水）

配信終了日

2024年02月07日（水）

主催

（株）Ｒ＆Ｄ支援センター

問い合わせ

Tel：03-5857-4811　E-mail：info@rdsc.co.jp　問い合わせフォーム

価格

非会員： 55,000円（本体価格：50,000円）
会員： 49,500円（本体価格：45,000円）
学生： 55,000円（本体価格：50,000円）

価格関連備考

会員（案内）登録していただいた場合、通常1名様申込で55,000円（税込）から
　★1名で申込の場合、49,500円（税込）へ割引になります。
　★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計55,000円（2人目無料）です。
　★3名以上同時申込は1名につき27,500円（税込）です。
会員登録とは？⇒よくある質問

備考

・こちらは1/23実施WEBセミナーのアーカイブ（録画）配信です。

・配信開始日以降に、セミナー資料（PDF）と動画のURLをメールでお送りします。セミナー資料の無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

講座の内容

受講対象・レベル

・業務に活かすため、半導体デバイスやMOSトランジスタ、集積回路についての知見を得たいと考えている方
・半導体集積化技術の将来像にご興味のある方

習得できる知識

・半導体物性の基礎
・MOSトランジスタの構造と動作原理
・MOSトランジスタの微細化手法
・MOSトランジスタの作製方法の基礎
・近年の微細トランジスタ高性能化技術の概要
・今後のMOSトランジスタの発展の方向性
など

趣旨

　半導体産業は、IT機器を支える基幹産業としてAI/DX社会実現の主導的役割を果たすと考えられるようになり、経済安全保障の観点からも高い注目が集まっている。この半導体集積回路の基本となるデバイスが、MOSトランジスタであることから、その進化の道筋を追うことで、現在および将来の集積回路の方向性を理解することができる。本セミナーでは、半導体の基本的性質から始めて、MOSトランジスタの構造と動作原理、微細化の基本的考え方、作製プロセスの基礎、性能向上のための工夫、将来の技術発展の方向性について、最新の研究開発状況にも触れながら、解説する。

プログラム

１．半導体産業の重要性
　　1-1　半導体の応用分野と将来性
　　1-2　半導体製品の種類
２．半導体の基礎
　　2-1　半導体の特徴
　　2-2　半導体中の電気伝導と移動度
　　2-3　n型半導体とp型半導体
　　2-4　pn接合と空乏層
３．MOSトランジスタの動作原理
　　3-1　MOSトランジスタの動作原理
　　3-2　MOS構造のバンド図
　　3-3　反転状態と閾値電圧
　　3-4　MOSトランジスタの電流-電圧特性
４．MOSトランジスタを用いた論理計算
５．MOSトランジスタの微細化とムーアの法則
　　5-1　集積回路のコンセプトとムーアの法則
　　5-3　MOSトランジスタのスケーリング則
６．MOSトランジスタの作製方法
７．MOSトランジスタ微細化の制限要因と改良技術
　　7-1　ゲート絶縁膜の薄膜化限界とhigh k絶縁膜
　　7-2　短チャネル効果と立体構造トランジスタ
　　7-3　チャネル移動度向上技術
８．MOSトランジスタ高集積化の現状と今後の動向
　　8-1　テクノロジーノードとロードマップ
　　8-2　三次元集積化

キーワード

半導体,動向,MOSFET,成膜,オンライン,WEBセミナー

半導体デバイス入門講座【アーカイブ配信】

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