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超臨界流体の基礎と半導体プロセスへの応用【アーカイブ配信】

こちらは2/27実施WEBセミナーのアーカイブ（録画）配信です。期間中何度でも視聴できます

※受付を終了しました。最新のセミナーはこちら

セミナー概要
略称
超臨界流体【アーカイブ配信】
セミナーNo.
240212A
配信開始日
2024年02月28日（水）
配信終了日
2024年03月13日（水）
主催
（株）Ｒ＆Ｄ支援センター
問い合わせ
Tel：03-5857-4811　E-mail：info@rdsc.co.jp　問い合わせフォーム
価格
非会員：  57,750円 （本体価格：52,500円）
会員：  52,250円 （本体価格：47,500円）
学生：  57,750円 （本体価格：52,500円）
価格関連備考
■会員（案内）登録していただいた場合、通常1名様申込で57,750円（税込）から
　★1名で申込の場合、52,250円（税込）へ割引になります。
　★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、
　　　　　　　　　　計60,500円（1名あたり30,250円）です。
　★3名以上同時申込は1名につき30,250円（税込）です。
■ 会員登録とは？　⇒　よくある質問
備考
資料は「半導体・MEMSのための超臨界流体」（コロナ社）を使用いたします。
受講料に購入費を含んでおります。

・こちらは2/27実施WEBセミナーのアーカイブ（録画）配信です。

・配信開始日以降に、セミナー資料（半導体・MEMSのための超臨界流体）（コロナ社）は郵送で動画はURLをメールでお送りします。セミナー資料の無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。
講座の内容
受講対象・レベル
・半導体デバイスメーカー、半導体製造装置メーカー、
　半導体材料（ガス、薬品、化成品）メーカーのエンジニアや研究者
・超臨界流体実験を始めたい研究者
・めっき、ドライ薄膜加工業界のエンジニアや研究者
・新規プロセス、代替プロセスで超臨界流体利用を考えているエンジニア、研究者
習得できる知識
・超臨界二酸化炭素流体の物理と化学
・超臨界二酸化炭素流体の利用分野・応用に関する知識
・気体、液体、超臨界流体の差異
・プロセス利用、装置考案の勘所
趣旨
超臨界流体とは、物質が高圧で気体とも液体ともつかなくなった状態のことで、表面張力がゼロで、高い拡散性と密度を併せ持ち、溶媒として振る舞う不思議な性質を持っています。超臨界流体、特に超臨界二酸化炭素はコーヒーからのカフェイン抽出などにすでに実用化されており工業的に有用な技術です。半導体やMEMSなどのマイクロプロセスや表面処理プロセスでは、従来の真空プロセスやめっきプロセスにはみられない微細加工性を実現できることから利用が着目されています。また、大量の廃液を排出しない低環境負荷型プロセスとしても大いに期待されています。　超臨界流体に関するこれまでのセミナーでは化学分野における研究興味を出発としたシーズ転展開形の内容が多かったように思います。これに対し本講では、マイクロ材料加工・表面処理プロセスになぜ超臨界流体が適しているかの観点から超臨界流体の性質を解説し、応用例を示すというニーズ志向の切り口で企画しました。
プログラム

１．超臨界流体の基礎とマイクロプロセス
　　1.1　物質の三態と超臨界流体
　　1.2　超臨界CO2流体の性質と様々の超臨界流体
　　1.3　流体物性の観点からのマイクロプロセスにおける超臨界CO2のメリット
　　　　（乾燥、洗浄、薄膜堆積）
２．超臨界流体を用いた薄膜堆積
　　2.1　めっき前処理
　　2.2　電解めっき
　　2.3　無電解めっき
　　2.4　電気めっき
　　2.5　化学的薄膜堆積
３．多孔質薄膜と細孔エンジニアリング
　　3.1　低誘電率薄膜と多孔質化
　　3.2　多孔質薄膜の作製
　　3.3　細孔形成・改質・洗浄と超臨界流体利用メリット
４．超臨界流体を用いた乾燥・エッチング・洗浄技術
　　4.1　超臨界流体を用いた半導体洗浄への適用
　　4.2　超臨界乾燥の原理と応用
　　4.3　エッチング

キーワード
半導体,洗浄,薄膜,クリーン,乾燥,WEBセミナー,オンライン
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