★レジスト材料 (感光性樹脂)・プロセスの説明から、化学成分とレジスト特性との関係、具体的なレジスト評価法まで丁寧に解説します！
こちらは12/10実施WEBセミナーのアーカイブ（録画）配信です。
1．感光性レジストの基礎とリソグラフィー工程の解説
1-1．感光性レジストとは？
1-2．リソグラフィーについて
1-3．フォトレジストの塗布、露光、露光後ベーク (PEB) 、現像工程の概要
2．レジスト設計の変遷とその作用メカニズム
2-1．半導体・電子デバイスの進化とレジスト設計の変遷
2-2．レジストの基本原理
2-3．レジストの現像特性
2-4．レジストとSi基板との密着性について
3．ノボラック系ポジ型レジストの材料設計
3-1．レジスト現像アナライザ(RDA)を用いた現像特性評価
3-2．ノボラック系ポジ型レジストの分子量とレジスト特性の関係
3-3．ノボラック系ポジ型レジストのプリベーク温度を変えたレジスト特性評価
3-4．PACのエステル化率を変化させたノボラック系ポジ型レジストのレジスト特性
3-5．ノボラック系ポジ型レジストの現像温度とレジスト特性との関係
4．化学増幅ポジ型レジストの材料設計
4-1．化学増幅ポジ型3成分レジストのベース樹脂とレジスト特性
・ベース樹脂
・溶解抑制剤
・酸発生剤
4-2．化学増幅ポジ型3成分レジストの溶解抑制剤とレジスト特性
4-3．化学増幅ポジ型3成分レジストの酸発生剤とレジスト特性
4-4．EUVレジストへの展開
4-5．i線厚膜レジストへの展開