1. フラットパネル用ガラス
1.1 ガラス基板サイズの推移(面積と板厚)
1.2 ガラス組成の推移
1.3 代表的ガラス特性のトレンドとその意味
1.4 インターポーザー的ガラス基板の提案
2. 半導体パッケージ用ガラス
2.1 要求形状とサイズ
2.1.1 反りに起因する特性とサイズ(C.T.E.,板厚,ヤング率)
2.1.2 基板サイズ(Siウエハとの比較)
2.1.3 表面平滑性と導電ロス
2.1.4 ガラス成形方法
2.2 提案されているガラス組成と材料特性
2.3 電気特性(誘電率と誘電正接)に対するガラス評価
2.4 誘電損失に対するガラス評価
2.5 フラットパネル用ガラスとの特性比較
2.6 2010年から提案されたガラスの誘電率に対する評価
2.7 ガラス特性に影響を与えるパッケージトレンド
3. ガラスの加工(主に穴あけ)
3.1 機械加工(エンドミルとブラスティング)
3.2 放電加工
3.3 エッチング
3.3.1 ウエットエッチング
3.3.2 ドライエッチング
3.4 現在提案されている加工方法
4. ガラスの強度と強化方法
4.1 ガラスの理論強度と実強度
4.2 マイクロクラックと機械的強度(グリフィス理論から)
4.3 ガラスの強化方法
4.3.1 マイクロクラックへの応力集中低減方法
4.3.2 風冷強化方法
4.3.3 ラミネート法
4.3.4 化学強化法
5. まとめ