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EUVレジストの概要とその評価方法に関する基礎知識、EUVリソグラフィーの基礎知識、EUVフォトプロセスの最適化方法、評価方法について解説する。

EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術【WEBセミナー】

セミナー概要
略称
EUVレジスト材料【WEBセミナー】
セミナーNo.
st260412
開催日時
2026年04月17日（金） 13:00～16:00
主催
サイエンス＆テクノロジー（株）
問い合わせ
Tel：03-5857-4811　E-mail：info@rdsc.co.jp　問い合わせフォーム
開催場所
【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。　
講師
大阪公立大学　大学院　工学研究科　客員教授　関口 淳　氏

＜略歴＞
　1983年3月、芝浦工業大学応用化学科卒業。1983年4月、日本ケミテック入社。分析研究所に勤務。1985年4月、住友GCA社に入社。レジスト塗布現像装置のプロセス開発に従事。その後、レジスト解析装置および形状シミュレータのシステム開発に従事。現在、リソテックジャパン㈱専務取締役。2019年4月～立命館大学客員教授、2020年4月～大阪府立大学客員教授、大阪市立大学客員教授、2022年4月～大阪公立大学客員教授。2000年、東京電機大学にて工学博士。応用物理学会会員。高分子学会会員。2016年、精密工学会技術賞。
　専門は、フォトリソグラフィー、バイオミメティクス。論文多数。著書は、「感光性フォトレジスト材料の評価」「リソグラフィー技術・その40年」「ノボラックレジスト・材料とプロセスの最適化」（いずれもS&T出版）。講演多数。
価格
非会員： 39,600円（税込）
会員： 37,840円（税込）
学生： 39,600円（税込）
価格関連備考
定　価　：1名につき 39,600円（税込）
会員価格：1名につき 37,840円　2名の場合 49,500円、3名の場合 74,250円（税込）

※上記会員価格は受講者全員の会員登録が必須となります。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※他の割引は併用できません。
※請求書は主催会社より代表者のメールアドレスにご連絡いたします。
備考
※資料付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

【ライブ配信（Zoom使用）セミナー】
・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
　PCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
・お申し込み後、接続確認用URL（https://zoom.us/test）にアクセスして接続できるか等ご確認下さい。
・後日、別途視聴用のURLをメールにてご連絡申し上げます。
・セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
講座の内容
受講対象・レベル
EUV関連の研究者、技術者。これからEUV材料の研究を始めたい研究者・技術者を対象としています。
習得できる知識
・EUVレジストの概要とその評価方法に関する基礎知識
・EUVリソグラフィーの基礎知識
・EUVフォトプロセスの最適化方法の習得
・EUVフォトプロセスの評価方法の習得
趣旨
　情報システム社会の発展は目覚ましく、パーソナルコンピュータは今や一人一台を所有する。最近では、スマートフォンが手のひらコンピューティングを可能にするなど、私たちの生活を劇的に変えている。また 、取り扱うデータ量も増大しており、ビッグデータと呼ばれる単一のデータ集合内で数十テラバイトから数ペタバイトの範囲のデータをやり取りする時代が到来している。そこに、IoT(Internet of Things) やIoE(Internet of Everything) と呼ばれる、すべての「モノ」がインターネットにつながることで、自動認識や自動制御、遠隔計測などを行うことが発展してきている。
　これらの発展はメモリやCPU(中央演算処理装置 ) 等の半導体電子デバイスの技術革新によって支えられており、この電子デバイスの技術 革新は 半導体微細加工技術の進展によるものである。現在は、EUVリソグラフィー技術により、20nmレベルの微細加工が可能となっており、本講座では、このEUVリソグラフィー技術の概要とプロセス評価技術について解説する。
プログラム

１．EUVLの概要
　1.1 EUVLの概要
　1.2 EUVL用レジスト

２．アウトガス評価技術
　2.1 EUVLレジストのアウトガス評価方法
　2.2 EUVLレジストのアウトガス評価装置

３．EUVレジストの評価技術
　3.1 EUV透過率測定
　3.2 ナノパーティクル添加レジストの高感度化
　3.3 屈折率nk測定
　3.4 EUV2光束干渉露光

４．EUVメタルレジストの評価技術
　4.1 メタルレジストの概要
　4.2 EUVメタルレジストのアウトガス分析
　4.3 EUVメタルレジストの問題点

５．EUVフォトレジストと電子線レジストの感度

６．「SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026」
　　聴講報告（特にEUVに関しての最新技術）

□質疑応答□

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