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☆薄膜作製の現状と問題点から様々なスパッタ法により薄膜を作製した場合の実例についてわかりやすく解説!

プラズマスパッタ法による薄膜作製の基礎と実際の膜作製例

~ 薄膜作製に関する基礎から応用まで ~

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セミナー概要

略称
スパッタ薄膜
セミナーNo.
190462  
開催日時
2019年04月19日(金)12:30~16:30
主催
(株)R&D支援センター
問い合わせ
Tel:03-5857-4811 E-mail:info@rdsc.co.jp 問い合わせフォーム
開催場所
商工情報センター(カメリアプラザ) 9F 研修室
価格
非会員: 49,980円(税込)
会員: 47,250円(税込)
学生: 10,800円(税込)
価格関連備考
■ 会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で49,980円(税込)から
 ・1名で申込の場合、47,250円(税込)へ割引になります。
 ・2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,980円(2人目無料)です。
■ 会員登録とは? ⇒ よくある質問
■ 学生価格は、教職員や研究員、企業に在籍されている学生には適用されません。
また、当日学生証をご持参ください。
備考
資料付

講座の内容

受講対象・レベル
・スパッタ法による薄膜作製たずさわって数年の若手技術者や,これからスパッタ法により薄膜作製を行う予定の新人の方
必要な予備知識
・スパッタ法による薄膜作製に関する基礎から応用まで解説するため,特に予備知識は必要ありません。
習得できる知識
・プラズマスパッタ法により作製される薄膜の構造及び特性の基本的な制御法について学ぶことができます。
趣旨
 現在の薄型テレビやスマートフォン,ハードディスクなどの様々な電子機器には,高機能を有する材料を薄膜化した電子部品が多く用いられている。これらの電子部品に用いられている薄膜を作製する方法の一つとして「プラズマスパッタ法」が使用されている。そこで,本講演では,一般的なプラズマスパッタ法におけるプラズマ生成から基板上への薄膜堆積に至る基礎的事項や,プラズマスパッタ法による薄膜作製の現状と問題点,プラズマスパッタ法の種類とその動作原理について解説した後,様々なスパッタ法により薄膜を作製した場合の実例について解説する。
プログラム
1. プラズマスパッタ法による成膜の基礎
 1-1. ターゲットを衝撃するためのイオンの生成
 1-2. プラズマ中のイオンによるターゲット表面の衝撃とスパッタ放出
 1-3. ターゲットからスパッタ放出された粒子の基板への輸送過程
 1-4. 基板に入射した粒子の付着・堆積過程
 1-5. 様々なスパッタ成膜技術

2 スパッタ法による薄膜作製の具体例 
 2-1. スパッタ法により作製された薄膜の機械的特性
 2-2. 低基板温度上に作製した薄膜の特性
 2-3. スパッタ法による調光ミラー用薄膜
 2-4. 対向ターゲット式スパッタ法による蛍光体薄膜
 2-5. 原子層積層法によるBaフェライト薄膜
 2-6. 低電圧スパッタ法によるITO薄膜の低温成膜
 2-7. スパッタビーム堆積法によるZnO薄膜


【質疑応答・名刺交換】
キーワード
スパッタ,薄膜,制御,作製,問題点,セミナー,講演,研修,研究,開発

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