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※日程が延期になりました。3/26(木)⇒5/27(水)

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

~レジスト材の高性能化、評価技術、最近のリソグラフィ技術など~

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セミナー概要

略称
レジスト
セミナーNo.
開催日時
2020年05月27日(水)10:30~16:30
主催
(株)R&D支援センター
問い合わせ
Tel:03-5857-4811 E-mail:info@rdsc.co.jp 問い合わせフォーム
開催場所
商工情報センター(カメリアプラザ) 9F 会議室
講師
大阪市立大学 大学院工学研究所 客員教授 工学博士 花畑 誠 氏
価格
非会員: 55,000円(税込)
会員: 49,500円(税込)
学生: 55,000円(税込)
価格関連備考
会員登録していただいた場合、55,000円(税込)から49,500円(税込)に割引になります。会員登録とは?⇒よくある質問
定員
10名 ※現在、お申込み可能です。満席になり次第、募集を終了させていただきます。
備考
資料付き

講座の内容

受講対象・レベル
(1)レジスト材料の研究開発、製造、品質管理、販売
(2)半導体、ディスプレイ、MEMS、センサーなどのデバイス開発、製造、販売
上記に従事されている方々およびリーダークラスの方々
 
習得できる知識
・レジストを製造するための基礎知識、設計概念と具体的方法
・レジストの品質管理手法
・レジストを使用する際の留意事項、トラブル対応能力
・リソグラフィープロセスの最適化方法
・リソグラフィー使用現場におけるトラブル対応能力
・素材メーカー、レジストメーカーとしての顧客対応能力
 
プログラム
1.リソグラフィの基礎
 (1)リソグラフィーとは
 (2)露光システムとリソグラフィー装置の変遷
2.レジスト材料とその高性能化
 (1)パターンニング用レジスト材料(総論)
 (2)G線、i線用レジスト
 (3)KrF用レジスト
 (4)ArFおよびArF液浸用レジスト
 (5)EUV用レジスト
3.レジスト製造技術と品質管理
 (1)レジスト製造技術
 (2)レジストの性能安定化技術
  (3)品質管理-その項目と方法
4.レジスト材料の評価技術
 (1)性能評価
 (2)品質評価
 (3)シミュレーション技術
5.レジスト製造、および使用現場におけるトラブル対応
 (1)種々のトラブルとその解決策(材料面から)
 (2)種々のトラブルとその解決策(プロセス面から)
 (3)顧客対応の方法
6.20nm以下のリソグラフィー技術
 (1)ダブルパターンニング技術
 (2)DSA技術とその材料
 (3)ナノインプリント技術
 (4)今後のリソグラフィー技術
【質疑応答・名刺交換】
 
キーワード
レジスト,リソグラフィ,材料,プロセス,装置,半導体,デバイス,セミナー,研修,講習会

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