ホーム > セミナー > 高機能化、高性能化のための表面処理法の基礎と表面分析法【LIVE配信】

高機能化、高性能化のための表面処理法の基礎と表面分析法【LIVE配信】

※本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです。会場での参加はございません。

セミナー概要

略称
表面分析法【WEBセミナー】
セミナーNo.
開催日時
2021年02月09日(火)10:30~16:30
主催
(株)R&D支援センター
問い合わせ
Tel:03-5857-4811 E-mail:info@rdsc.co.jp 問い合わせフォーム
開催場所
【WEB限定セミナー】※在宅、会社にいながらセミナーを受けられます 
講師
ジャパン・リサーチ・ラボ 代表 博士(工学) 奥村 治樹 氏
兼 大阪産業大学 情報システム学科 非常勤講師
  京都産業21 相談員
  滋賀県産業支援プラザ 相談員
  知財管理技能士

【専 門】
表面・界面、接着、高分子、ナノ粒子、分析、ハイブリッド材料、等
価格
非会員: 55,000円(税込)
会員: 49,500円(税込)
学生: 55,000円(税込)
価格関連備考
会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で55,000円(税込)から
 ★1名で申込の場合、49,500円(税込)へ割引になります。
 ★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計55,000円(2人目無料)です。
会員登録とは?⇒よくある質問
特典
※名刺交換の代わりに講師に名簿(お名前、ご所属、メールアドレス)を提出いたします。
以下のサービスをご希望の方は講師へ直接メールしてください。

【セミナー受講特典コンサルティング】
 セミナーに受講して名刺交換をさせて頂いた方への特典サービスとして、初回限定で限定特別料金にてコンサルティングをご利用いただけます。
 技術的な相談はもちろん、戦略相談、オンサイトセミナーなど、依頼条件を満たす限り原則として実施内容、方法に制限はありません。
 技術コンサルティングには興味があるが利用したことがないので、どのようなものか良くわからず正式依頼に踏み切れない、決裁を取るために一度ディスカッションしたいという方は、是非この機会に、JRLのコンサルティングを御体験ください。限定特典ではありますが、必ず満足のいただける内容でお応えします。

<依頼条件>
 ・初回1回のみ
 ・セミナー実施日より3カ月以内に依頼が成立
 ・コンサルティング実施時間:4時間程度まで
 ・費用:場所、内容によらず定額の限定受講特典
定員
30名 ※現在、お申込み可能です。満席になり次第、募集を終了させていただきます。
備考
資料付き

【LIVE配信セミナーとは?】
・本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
・「ミーティング用Zoomクライアント」をダウンロードするか、ZOOM を
  ダウンロードせず、Web ブラウザから参加するかの2種類がございます。
  ZOOM WEBセミナーのはじめかたをご覧ください。

・お申込み後、受理のご連絡メールをさせていただきます。
 一部メールが通常セミナー形式(受講券、請求書、会場の地図)になっておりますが
 LIVE配信のみのセミナーです。
・お申込み後、接続テスト用のURL(https://zoom.us/test)から
「ミーティングテストに参加」を押していただき動作確認をお願いします。
・後日、別途視聴用のURLをメールにてご連絡申し上げます。
・セミナー開催日時の10分前に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
・セミナー資料は郵送にて前日までには、お送りいたします。
ご自宅への送付を希望の方はコメント欄にご住所などをご記入ください。
・ご質問については、オープンにできるご質問をチャットにご記入ください。
 個別相談(他社に知られたくない)のご質問は後日メールにて講師と直接お願いします。
・タブレットやスマートフォンでも視聴できます。
・講義の録音、録画などの行為や、テキスト資料、講演データの権利者の許可なく
 複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。

講座の内容

受講対象・レベル
・研究開発部門、分析部門、製造部門、品質保証部門など技術部門全般
・若手から中堅を中心とした担当者
・部署マネジメント、部下を教育する管理者、マネージャー
習得できる知識
・表面処理の基礎
・表面処理のポイント
・表面処理のための分析の基礎と活用法
・目的別分析手法の使い分け
・トラブル解析
趣旨
 表面はあらゆる技術や製品の基盤となるものであり、現在扱われる材料やプロセス、技術、商品で表面が関与していないものは無いと言っても過言ではない。これは言い方を変えると、現代は表面に支配されているということになる。これほど重要なものであることから、様々な表面処理法が開発され、利用されている。しかし、一方で表面はまだ未解明な部分も多く、その本当の姿を明らかにして利用することは容易ではない。
 本講では、表面処理の基礎、ポイントから、処理条件検討やトラブル解析に必要不可欠な分析評価まで、その姿を明らかにして利用するためのアプローチについて、技術的テクニック、コツやノウハウから、考え方、アプローチに方法まで応用アプリケーションの事例を交えて解説する。
プログラム
1.【表面に支配される現代社会】
2.【表面とは】

  2.1 表面(薄膜)とは?
  2.2 表面の要素
  2.3 表面における現象
  2.4 界面形成因子と評価法
  2.5 表面を支配するには
  2.6 表面処理の背景
  2.7 製品改良
3.【表面処理法の分類】
  3.1 表面処理の分類
  3.2 金属のための表面処理
  3.3 金属表面処理の特徴
  3.4 洗浄
  3.5 洗浄処理のポイントと注意点
  3.6 硬化処理
  3.7 化学研磨と電解研磨
  3.8 化成処理
  3.9 エッチング(ドライ)
4.【主な表面処理法の基本と特徴】
  4.1 UV・オゾン洗浄
  4.2 めっきの種類
  4.3 めっきの特徴
  4.4 代表的めっき工程
  4.5 めっき処理のポイントと注意点
  4.6 プラズマ処理
  4.7 PVD(物理蒸着:Physical Vapor Deposition)
  4.8 CVD(化学蒸着:Chemical Vapor Deposition)
  4.9 PVD v.s. CVD
  4.10 溶射
  4.11 コロナ処理
  4.12 プラズマ処理で発現する機能
  4.13 イオン注入
  4.14 グラフト重合
5.【シランカップリング反応】
  5.1 代表的な処理方法
  5.2 処理条件
  5.3 条件と構造の多様性の例
6.【接着のための表面処理】
  6.1 機械的処理
  6.2 化学的処理
  6.3 UV処理と剥離強度
  6.4 シランカップリング処理と剥離強度
  6.5 注意点・ポイント
7.【サンプルの取り扱い】
  7.1 サンプリング
  7.2 裏表の表示
  7.3 汚染の例
8.【代表的表面分析手法】
9.【表面分析の分類 】

  9.1 表面分析に用いる主な手法と選び方 
  9.2 表面・微小部の代表的分析手法
  9.3 手法の選択
10.【X線光電子分光法(XPS,ESCA)】
  10.1 XPSの原理
  10.2 ワイドスキャン(サーベイスキャン)
  10.3 ナロースキャン(代表的な元素)
  10.4 元素同定
  10.5 化学状態の同定
  10.6 角度変化測定による深さ方向分析
  10.7 ハイブリッド分析
  10.8 チャージアップ
  10.9 イオンエッチングダメージ
11.【オージェ電子分光法(AES)】
  11.1 微小領域の元素分析手法
  11.2 AESの原理
  11.3 AES測定例
  11.4 XPSとAESの手法の比較
12.【X線マイクロアナライザ(EPMA)】
  12.1 EPMAの原理
  12.2 元素分布分析
13.【フーリエ変換赤外分光法(FT-IR)】
  13.1 赤外分光法(IR)の原理
  13.2 FT-IRの長所・短所
  13.3 測定法
  13.4 主な吸収帯
  13.5 全反射法(ATR法)
  13.6 ATR測定における注意点
  13.7 In-situ FT-IR
14.【飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF-SIMS)】
  14.1 SIMSの概念
  14.2 D-SIMSに用いられる質量分析法
  14.3 TOF-MSの原理
  14.4 TOF-SIMSによる化学構造解析
15.【グロー放電分析(GD)】
16.【SEM、TEM】

  16.1 SEM像
  16.2 表面形状と組成
  16.3 SEM-EDS組成分析
17.【走査型プローブ顕微鏡(SPM)】 
  17.1 SPMとは
  17.2 主な走査型プローブ顕微鏡
  17.3 形態観察におけるAFMの位置づけ
  17.4 観察例
  17.5 位相イメージング
18.【解析の実例】
  18.1 評価要素と手法(洗浄)
  18.2 評価要素と手法(改質)
  18.3 評価要素と手法(成膜)
  18.4 被膜欠陥
  18.5 SEM観察例
  18.6 断面TEM写真
  18.7 シミ分析
  18.8 基板上の付着物
  18.9 ハジキの分析
  18.10 マイクロ抽出法による分離分析
  18.11 絶縁体上の異物(AES)
  18.12 プラズマ処理(XPS)
  18.13 プラズマ処理(FTIR)
  18.14 プラズマ処理PI(SPM)
  18.15 オゾン処理ゴム(FTIR)
  18.16 脱ガス分析(TEOS)
  18.17 化学状態マッピング(AES)
19.【UV照射による化学構造の評価】
  19.1 【表面構造変化の解析(XPS)】
   19.1.1 処理条件
   19.1.2 光照射による変化
  19.2 【気相化学修飾法】
   19.2.1 代表的な反応スキーム
   19.2.2 気相化学修飾法による官能基定量結果
  19.3 【化学修飾法を用いたTOFイメージング】
   19.3.1 処理条件
   19.3.2 UV照射前後におけるスペクトル
20.【ポリイミドの表面処理層の深さ方向分析】
  20.1 試料と実験条件
  20.2 アルカリ処理前後のFTIR、XPSスペクトル
  20.3 顕微ATRスペクトル
  20.4 断面ラインプロファイル
  20.5 深さ方向ラインスキャンFTIRスペクトル
  20.6 各処理時間における深さ方向構造変化分布
21.【まとめと質疑】
キーワード
表面処理,界面分析,表面分析,赤外分光法,研修,講習会

関連するセミナー

関連する書籍・DVD

関連する通信講座

関連するタグ