2019年12月12日（木）
10:30～16:30
Tel：03-5857-4811 E-mail：info@rdsc.co.jp
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非会員：
49,500円
（本体価格：45,000円）
会員：
47,020円
（本体価格：42,745円）
学生：
49,500円
（本体価格：45,000円）
49,500円 ( 会員受講料 47,020円 )
定価：本体45,000円＋税4,500円
会員：本体42,750円＋税4,270円
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※資料・昼食付
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当セミナーは「半導体封止材料の設計・製造技術 総合解説 2か月連続コースセミナー」の[応用編]です。
半導体は、「樹脂封止」の採用（1970年代後半）により急成長を遂げ汎用化した。日本は、樹脂封止用の「封止材料」の分野で市場を制圧し続けている。今回、封止材料の基本技術および応用技術を2日間にわたり徹底解説する機会を設けた。講師は、封止材料およびその関連技術の開発に最前線で現役として約40年携わっており、講演は半導体パッケージング関係者へ技術伝承する内容となっている。
第2日目の本講では、封止材料の応用技術を分かり易く説明する。充填剤（シリカ）の配合・表面処理技術、触媒活性や各種機能剤の活用まで、具体的な封止材料の配合設計について解説する。さらに高速化対応FO型パッケージや高発熱型パワーデバイス、混載型パッケージ等、先端デバイスにおける封止材料への要求・ニーズについても解説する。
第１講 封止材料設計・製造の応用技術～シリカ・触媒・機能剤配合～
１．シリカ配合と封止材料特性との関係
1.1 シリカ配合と成形性
1.2 シリカ配合と一般特性
1.3 シリカ配合と他特性(応力、誘電率、他)
２． シリカの表面処理技術
2.1 表面処理の目的
2.2 シリカの表面状態
2.3 表面処理方法
2.4 表面処理の検証
３． シリカの分散技術
3.1 凝集と分散
3.2 分散方法
3.3 評価方法
４． シリカの課題
4.1 実体把握
4.2 最適処理法
4.3 微粒化対応
５．触媒の活性制御
5.1 触媒活性制御の要求（圧縮成形，シート／フィルム成形）
5.2 分散寸法
5.3 種類
5.4 潜在性
5.5 潜在化：方法、設計、検討
６．シラン系処理剤の活用技術（カップリング剤，表面処理剤）
6.1 シラン系処理剤の種類と選定
6.2 シラン系処理剤の機能
6.3 シラン系処理剤の安定性
７．シランカップリング剤処理技術
7.1 処理の目的
7.2 処理に関わる理論とその活用
7.3 シランカップリング剤の添加方法
８．他の機能剤の活用技術
8.1 応力緩和剤
8.2 密着・粘着剤
8.3その他
第2講 先端パッケージで求められる封止技術の概要（半導体パッケージング技術の進化への対応）
９．半導体パッケージング技術開発の動き
9.1 ＩＴ分野
9.2 自動車分野
9.3 共通技術（インターネット,パワーデバイス）
１０．ＩＴ分野と封止技術
10.1 高速化FOPKG
10.2 高速化の要素技術：ノイズ対策、回路距離対策
10.3 薄層封止
１１．自動車分野と封止技術
11.1 放熱対策（新規基板: GaN／SiC）
11.2 混載型PKG（Module/Board）
11.3 混載封止（3D材料, 4D実装）
□ 質疑応答 □
