ALD技術の基礎を最先端半導体デバイスの応用事例を用いて、徹底的に解説!

ALD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術の基礎と応用【LIVE配信】
※本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです。会場での参加はございません。

セミナー修了後、受講者のみご覧いただける期間限定のアーカイブ配信を予定しております。

セミナー概要
略称
ALD【WEBセミナー】
セミナーNo.
211229
開催日時
2021年12月20日(月) 10:30~16:30
主催
(株)R&D支援センター
問い合わせ
Tel:03-5857-4811 E-mail:info@rdsc.co.jp 問い合わせフォーム
講師
奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究領域 
情報機能素子科学研究室 教授 博士(工学)浦岡 行治 氏
【専門】
半導体プロセス・デバイス
【活動】
応用物理学会フェロー
IEEEシニアー
AMFPD国際会議実行委員長
薄膜材料デバイス研究会組織委員
価格
非会員:  55,000円 (本体価格:50,000円)
会員:  49,500円 (本体価格:45,000円)
学生:  55,000円 (本体価格:50,000円)
価格関連備考
会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で55,000円(税込)から
★1名で申込の場合、49,500円(税込)へ割引になります。
★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計55,000円(2人目無料)です。
★3名以上同時申込は1名につき27,500円(税込)です。
■ 会員登録とは? ⇒ よくある質問
定員
30名 ※現在、お申込み可能です。満席になり次第、募集を終了させていただきます。
備考
資料付【PDF配布】

【Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順】
1)Zoomを使用されたことがない方は、こちらからミーティング用Zoomクライアントを
  ダウンロードしてください。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。
2)セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。Zoom WEBセミナーのはじめかたに
  ついてはこちらをご覧ください。
3)開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始
  10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加
  ください。

・セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
 無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。
講座の内容
受講対象・レベル
・半導体プロセス・デバイスの初学者
・ALD技術の導入を検討している技術者
・本テーマに興味のある方ならどなたでも受講可能。
習得できる知識
・ALD/ALE技術の基礎
・薄膜形成技術の基礎
・薄膜加工技術の基礎
・薄膜を使った半導体デバイスの動作原理
・薄膜デバイスの信頼性評価方法
趣旨
AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、太陽電池などのエレクトロニクスの分野で広く活用されてきた。本セミナーでは、近年、特に注目を浴びているALD(原子層堆積)/ALE(原子層エッチング)技術について、その基礎と応用について概説する。特に、堆積の原理や材料について詳しく紹介する。また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介する。
プログラム

1.薄膜形成技術
  1.1 薄膜作製/加工の基礎
  1.2 薄膜の評価手法
   1.2.1 電気的評価
   1.2.2 化学的分析手法
   1.2.3 光学的評価手法
2.ALD/ALE技術の基礎
  2.1 ALD技術の原理
  2.2 ALD薄膜の特長
  2.3 ALD技術の歴史
  2.4 ALD装置の仕組み
  2.5 ALD技術の材料
  2.6 ALE技術の基礎
  2.7 ALE技術の課題
3.ALD/ALE技術の応用
  3.1 パワーデバイスへの応用
  3.2 酸化物薄膜トランジスへの応用
  3.3 MOS LSIへの応用
  3.4 太陽電池への応用
4.ALD/ALE技術の将来
  4.1 ALD/ALE技術の課題
  4.2 ALD/ALE技術の展望

キーワード
パワーエレクトロニクス,ALD,Atomic Layer Deposition,原子層
関連するセミナー
関連する書籍
関連するタグ
フリーワード検索