従来の洗浄(薬液VS純水)から最近の洗浄、目的別洗浄など詳解!
※オンライン会議アプリZOOMを使ったWEBセミナーです。ご自宅や職場のノートPCで受講できます。
1.序論-汚染が半導体デバイスに与える影響
1-0 クリーン化の重要性
1-1 金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル
1-2 分子汚染(NH3, アミン, 有機物, 酸性成分)
1-3 各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術
2.洗浄技術
2-1 RCA洗浄
2-2 各種洗浄液と洗浄メカニズム-薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄
2-3 洗浄プロセスの動向
2-4 最先端の洗浄技術とその問題点
3.その他の汚染制御技術
3-1 工場設計
3-2 ウェーハ保管、移送方法
4.次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
4-1 新洗浄乾燥技術(SCCO2洗浄乾燥, PK剤乾燥)
4-2 次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題