1. ホーム
  2. セミナー
  3. リソグラフィ技術の発展とレジスト材料の原理および半導体高密度化への展開【LIVE配信】

☆第１部では、EUVリソグラフィ用光源開発の最新動向から最先端のハイブリッドDUVレーザーの高密度実装への応用の現状について解説します！
☆第２部では、半導体製造プロセス全体におけるリソグラフィから、各露光装置について、レジスト材料の原理まで解説します！

リソグラフィ技術の発展とレジスト材料の原理および半導体高密度化への展開【LIVE配信】
～EUV露光装置、DUV・EUV光源開発の最前線～

※本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです。会場での参加はございません。
【アーカイブ配信：7/19～7/31（何度でも受講可能）】の視聴を希望される方は、こちらからお申し込み下さい。

※受付を終了しました。最新のセミナーはこちら

セミナー概要
略称
リソグラフィ・レジスト【WEBセミナー】
セミナーNo.
240708
開催日時
2024年07月18日（木） 12:30～16:40
主催
(株)R&D支援センター
問い合わせ
Tel：03-5857-4811　E-mail：info@rdsc.co.jp　問い合わせフォーム
開催場所
【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。　
価格
非会員：  49,500円 （本体価格：45,000円）
会員：  46,200円 （本体価格：42,000円）
学生：  49,500円 （本体価格：45,000円）
価格関連備考
会員（案内）登録していただいた場合、通常1名様申込で49,500円（税込）から
　★1名で申込の場合、46,200円（税込）へ割引になります。
　★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,500円（2人目無料）です。
■会員登録とは？　⇒　よくある質問
備考
・資料付（PDFデータでの配布）
　※紙媒体での配布はございません。
　※資料の無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。

【Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順】
１）Zoomを使用されたことがない方は、こちら からミーティング用Zoomクライアントを
　　ダウンロードしてください。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。
２）セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。Zoom WEBセミナーのはじめかたに
　　ついては こちら をご覧ください。
３）開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始
　　10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加
　　ください。
講座の内容
受講対象・レベル
【第１部】半導体製造装置にたずさわって2~3年の若手技術者や新人の方。
【第２部】半導体製造プロセスのうち、リソグラフィ関連全般を原理的な視点から理解したい方（新人、若手技術者、マネジメント）。
必要な予備知識
特に予備知識は必要ありません。基礎から説明いたしますが、四則演算、三角関数、微積分、平均値と標準偏差、等の基礎知識は必要です。
習得できる知識
・半導体リソグラフィの基礎知識および最新のトレンド情報が習得できる。
・半導体製造プロセスにおけるリソグラフィの位置づけ、半導体露光装置の歴史を理解できる。
・半導体露光装置の構成と性能、特に解像度の決定要因と部分的コヒーレンス理論を理解することができる。
・EUV露光装置の特徴を理解することができる。
・電子ビーム露光装置の特徴を理解することができる。
・レジスト材料の原理を理解することができる。
趣旨
【第１部】
最先端リソグラフィはDUV（KrF,ArF, ArF液浸）領域からEUV領域へ長足の進歩を遂げつつある。この動きと軌を一にして半導体製造技術（中間層、高密度実装）も最先端で大きく繁忙しつつある。本講演ではEUVリソグラフィ用光源開発の最新動向と最近の九州大学でのEUV関連研究の動向について報告する。高密度実装に向けてギガフォトン者が取り組んでいるハイブリッドエキシマレーザーの国プロでの試験でCMC材（SiC複合材）の優れた加工性能を実証した。この成果は、このレーザーの高密度実装技術への大きな可能性を示している。
講演ではEUV光源開発の最前線と、弊社で提案している最先端のハイブリッドDUVレーザーの高密度実装への応用の現状について報告する。

【第２部】
半導体製造プロセス全体におけるリソグラフィの位置づけ、半導体パターン微細化に伴うリソグラフィ用露光方式の進化の流れを、専門外の方々にもわかりやすく説明する。次に、投影露光装置の構成、主要性能と要素性能の関係について述べ、露光装置についての定性的理解を深めてもらう。更に、解像度に対する投影光学系、照明光学系のパラメータと露光波長の寄与ついて数式を用いて詳しく解説し、専門の方には計算の仕方を、専門外の方には計算結果の意味するところを理解してもらう。そして、多層膜ミラー、反射光学系を含むEUV露光装置の特徴について説明する。更に、原版となるマスク上に半導体パターンを描画するために用いられる電子ビーム露光装置について説明する。最後に、露光装置によって形成される光強度分布からレジスト像への転写原理、レジスト材料の原理について述べる。
プログラム

【第１部】「リソグラフィ用DUV光源・EUV光源の発展と半導体高密度化への展開」
Progress of DUV and EUV light source for Lithography, and its new Application for High density Packaging of Semiconductor

NHリサーチ／
九州大学　プラズマ・ナノ界面工学研究センター　アドバイザー・客員教授　工学博士
溝口　計氏

＜プログラム＞

1. Introduction
  1-1.New Trend of Semiconductor Manufacturing Technology
  1-2.Topics: Business Trend of DUV Lithography

2. FRONT END: EUV Source development for Lithography
  2-1. Market trend of EUV Lithography 
  2-2. 300W EUV Source (Pilot#1) for EUV Lithography
  2-3. EUV Mask inspection and Light Source
  2-4. New EUV Activity of Kyushu-Univ. 

3. MIDDLE END: DUV Direct Laser Processing
  3-1. Packaging and DUV laser processing （COMPAUND OF CERAMIC & PLASTIC）
  3-2. Hybrid Excimer Laser and Advanced material processing

4. Summary, Acknowledgement

ーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーー

【第２部】「リソグラフィ技術の発展とレジスト材料の原理」
東京工業大学　物質・情報卓越教育院　産学協創教育コーディネーター　博士（工学）／
九州大学　プラズマナノ界面工学センター　アドバイザー
鈴木 一明　氏

＜プログラム＞

１．半導体製造プロセス全体におけるリソグラフィの位置づけ
２．半導体露光装置の露光方式の進化
３．ウエハパターニング用半導体露光装置の性能と要素機能
（部分的コヒーレンス理論、解像度、解像度向上策、重ね合わせ精度、スループットを含む）
４．EUV露光装置
（多層膜ミラー、反射光学系、真空ステージ、Cost of Ownershipを含む）
５．電子ビーム露光装置
６．レジスト材料の原理
 

スケジュール
【第１部】12：30～13：30
【第２部】13：40～16：40
キーワード
リソグラフィ,レジスト,露光装置,DUV,EUV光源,半導体,微細,講演,セミナー,研修
関連するセミナー
関連する書籍
関連するDVD
関連するタグ
フリーワード検索
カテゴリ別検索
カテゴリ別検索