~「洗浄」と「乾燥」の2つのテーマに対する過去から最新にわたる技術トレンドを紹介~
※オンライン会議アプリzoomを使ったWEBセミナーです。ご自宅や職場のノートPCで受講できます。
※本セミナーのアーカイブ配信はございません。
1.半導体ウェット洗浄の必要性
1-1 半導体製造フローと洗浄の位置付け
1-2 洗浄装置の役割
1-3 洗浄の除去対象
2.半導体ウェット洗浄の方法・原理
2-1 洗浄装置の種類
2-2 異物の除去
2-3 異物の付着抑制
3.洗浄の技術トレンド
3-1 洗浄と半導体の歴史
3-2 従来の洗浄技術
4.乾燥の技術トレンド
4-1 乾燥と半導体の歴史
4-2 従来の乾燥技術
5.次世代半導体の洗浄課題
5-1 半導体デバイスのトレンド
5-2 洗浄の技術的課題
5-3 洗浄装置に求められる機能
6.先端技術・感動技術
6-1 最新の洗浄技術
6-2 最新の乾燥技術
6-3 シミュレーション技術
7.まとめ