半導体デバイスにおいて重要性が高まっている低温・常温接合技術について、基礎原理、最新の研究開発動向、実際のデバイス応用事例まで解説
こちらは2026/6/5実施WEBセミナーのアーカイブ(録画)配信です。期間中何度でも視聴できます。
1.低温・常温接合の概論
1-1 講演者の略歴と研究活動の概要
1-2 接合技術の分類
(1)直接接合vs間接接合
(2)高温接合vs低温接合
1-3 低温接合の長所・短所
1-4 低温接合のアプローチ
(1)表面活性化接合
(2)親水化接合
(3)原子拡散接合
1-5 関連する国際学会から見る研究開発動向
(1)最新の研究動向
(2)国別に見た研究内容とキープレイヤー
2.表面活性化接合
2-1 接合原理
2-2 研究の歴史
2-3 界面構造
2-4 主要な研究者
2-5 装置構成
2-6 長所・短所
2-7 近年の研究動向
2-8 将来への期待
3.親水化接合
3-1 接合原理
3-2 研究の歴史
3-3 界面構造
3-4 主要な研究者
3-5 装置構成
3-6 長所・短所
3-7 近年の研究動向
3-8 将来への期待
4.原子拡散接合
4-1 接合原理
4-2 研究の歴史
4-3 界面構造
4-4 主要な研究者
4-5 装置構成
4-6 長所・短所
4-7 近年の研究動向
4-8 将来への期待
5.デバイスへの応用
5-1 Silicon-on-Insulator
5-2 Hybrid bonding
5-3 積層型太陽電池
5-4 MEMS封止
5-5 異種材料接合型デバイス
5-6 社会実装への課題