スパッタ法，真空蒸着法，CVD法の原理やそれぞれ得られる膜の特徴、作製した薄膜の評価方法等など…。
本セミナーでは、成膜技術に携わる初級〜中級の技術者の方々を対象に、薄膜作製の基礎知識を幅広く解説します。
１.薄膜技術ための基礎知識
1.1 真空工学
1.2 表面物性工学
1.3 プラズマ工学
２.物理気相成長（PVD）法
2.1 真空蒸着法
a.原理
b.真空蒸着法の種類
c.真空蒸着法の留意事項
2.2 スパッタ法
a.原理
b.スパッタ法の種類
c.スパッタ法で作製される薄膜の特徴
d.スパッタ法の留意事項
３.化学気相成長（CVD）法
3.1 原理
3.2 化学気相成長法の種類
3.3 化学気相成長法で作製される薄膜の特徴
3.4 化学気相成長法の留意事項
４.薄膜評価法
4.1 形態観察
4.2 膜組成、膜構造分析
4.3 付着力、膜応力測定
4.4 電気的特性、光学的特性測定
５.薄膜作製プロセスで遭遇するさまざまなトラブルと解決策
5.1 膜質に関するトラブル
5.2 装置に関するトラブル
□ 質疑応答 □