1. ホーム
  2. セミナー
  3. 半導体デバイスにおける洗浄技術の基礎と技術動向と今後の課題【WEBセミナー】

微細化が止まらない半導体技術に伴い、重要性が増してきている半導体の洗浄技術
次世代半導体に対応するための汚染制御・洗浄乾燥技術とは・・・
洗浄技術の基礎から歩留改善のための技術について経験豊富な講師がわかりやすく解説

半導体デバイスにおける洗浄技術の基礎と技術動向と今後の課題【WEBセミナー】
～洗浄メカニズムと歩留低下技術・汚染制御技術・次世代の洗浄技術～

【Live配信】のみ

※受付を終了しました。最新のセミナーはこちら

セミナー概要
略称
半導体洗浄【WEBセミナー】
セミナーNo.
st240113
開催日時
2024年01月29日（月） 13:00～16:30
主催
サイエンス＆テクノロジー（株）
問い合わせ
Tel：03-5857-4811　E-mail：info@rdsc.co.jp　問い合わせフォーム
開催場所
【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。　
価格
非会員： 37,400円（税込）
会員： 35,640円（税込）
学生： 37,400円（税込）
価格関連備考
定　価　：1名につき 37,400円（税込）
会員価格：1名の場合 35,640円、2名の場合 49,500円、3名の場合 74,250円（税込）

※上記会員価格は受講者全員の会員登録が必須となります。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※他の割引は併用できません。
※セミナー請求書は代表者のメールアドレスにPDFデータを添付しお送りいたします。
備考
製本テキスト(開催日の4、5日前に発送予定)
※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
　Zoom上ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
※講義中の録音・録画・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。


【ライブ配信（Zoom使用）セミナー】
・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
　PCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
・お申し込み後、接続確認用URL（https://zoom.us/test）にアクセスして接続できるか等ご確認下さい。
・後日、別途視聴用のURLをメールにてご連絡申し上げます。
・セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
講座の内容
受講対象・レベル
研究開発および製造業務にたずさわっている中堅、若手や新人の方対象です。
特に予備知識は必要ありません。基礎から解説いたします。
習得できる知識
〇半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できる。
〇最新の洗浄液技術を習得できます。
趣旨
　半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こします。序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。洗浄以外の汚染制御技術に関して紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。
プログラム

１．序論－汚染が半導体デバイスに与える影響
　1.1  クリーン化の重要性
　1.2　金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル
　1.3　分子汚染(NH3, アミン, 有機物, 酸性成分)
　1.4　各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術

２．洗浄技術
　2.1　RCA洗浄
　2.2　各種洗浄液と洗浄メカニズム-薬液系洗浄　vs. 純水系洗浄
　2.3　洗浄プロセスの動向
　2.4　乾燥技術
　2.5　最先端の洗浄技術とその問題点

３．その他の汚染制御技術
　3.1　工場設計
　3.2　ウェーハ保管、移送方法

４．次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
　4.1　新洗浄乾燥技術(SCCO2洗浄乾燥, PK剤乾燥)
　4.2　次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題

　　□ 質疑応答 □

関連するセミナー
関連する書籍
関連するタグ
フリーワード検索
カテゴリ別検索
カテゴリ別検索