2024年07月29日（月）
13:00～16:30
Tel：03-5857-4811 E-mail：info@rdsc.co.jp
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非会員： 49,500円（税込）
会員： 46,970円（税込）
学生： 49,500円（税込）
定 価 ：1名につき 49,500円（税込）
会員価格：1名につき 46,970円 2名の場合 49,500円、3名の場合 74,250円（税込）
※上記会員価格は受講者全員の会員登録が必須となります。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※他の割引は併用できません。
※請求書は主催会社より代表者のメールアドレスにご連絡いたします。
※資料付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
・ナノインプリントリソグラフィ（NIL）の基礎
・NILにおける金型作製技術
・NILにおける転写樹脂
・NILにおける応用例
・ロールトゥロール（RTR）NILによる転写例
・反射防止構造フィルムの量産例とその応用
・リソグラフィ用途の動向
・新技術動向、メタレンズ、AR/VRグラス 等
ナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography: NIL）は、ナノオーダーの金型転写技術であり、簡単な原理でナノパターンが得られる利点がある。また、最近は半導体露光装置への適用も期待されており、メタサーフェスやAR/VRグラスへの応用も進んでいる。このように、ＮＩＬは最先端の高付加価値の製品をリーゾナブルな価格で作製することができる。
本講演では、ＮＩＬの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を紹介することで、今後の新製品のヒントが得られると考えている。また、ロールトゥロール（RTR）NILの説明も行い、反射防止構造フィルムの製造例なども紹介する。こちらもフィルムベースの新製品のヒントが得られると考えている。また、近年活発化しているメタサーフェスおよびAR/MRグラス等の状況も概説する。
１．はじめに
1.1 ナノインプリントリソグラフィの現状
1.2 ナノインプリントリソグラフィの実用例
２．ナノインプリントの基礎
2.1 ナノインプリントの歴史
2.2 ナノインプリントの要素技術
2.3 ナノインプリントの各種方式
2.4 ナノインプリントの位置づけ
３．ナノインプリントの応用技術
3.1 ナノトランスファープロセス
3.2 金属パターン転写
４．ロールトゥロール (RTR) ナノインプリント
4.1 RTR NILの基礎
4.2 反射防止構造（モスアイ構造）
4.3 モスアイ構造の作製方法
4.4 モスアイ構造の転写方法
4.5 モスアイ構造の応用例
5. 将来展望
5.1 メタサーフェス
5.2 AR/MR グラス
6．まとめ
□ 質疑応答 □
