レジスト・リソグラフィ技術の基礎から微細化・高解像度化などの高品位化の変遷および創出過程、効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用を学ぶ！
※本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです。会場での参加はございません。
【アーカイブ配信：11/18～11/25（何度でも受講可能）】の視聴を希望される方は、こちらからお申し込み下さい。
１． 技術パラダイムシフトと半導体集積回路
1-1. 科学技術の発展
3大発明から産業革命
1-2. 技術パラダイムシフトと産業発展
1-3. マイクロエレクトロニクス(ME)と社会
1-4. MEの黎明期とフォトレジスト
フォトレジスト開発の必然性とイノベーションの創出、
最先端半導体デバイス
２． フォトレジストの本流
2-1. ゴム系ネガ型フォトレジスト
(1) リソグラフィプロセスの確立
フォトレジスト開発の推移
(2) 基本的構造及び製造法の進化
2-2. ノボラック系ポジ型レジスト
(1) 基本的組成
ウェーハ大口径化へのイノベーション
(2) マトリックス樹脂、感光性化合物のデザイン
(3) レジストの透明性と解像度
(4) i-線レジスト
(5) リソグラフィプロセスでの化学と工程管理
(6) レジストの溶剤と環境への影響
(7) 高性能化への工夫と新たなイノベーション
３． フォトレジストの裏街道
3-1. X線レジスト
3-2. Top Surface Imaging
表層をイメージングレイヤーとするDESIREプロセス
3-3. Deep UVリソグラフィ
(1) 黎明期のレジスト
(2) 化学増幅型レジスト
レジストの透明性と高コントラス実現のジレンマ
(3) 光酸発生剤
４． エキシマレーザリソグラフィ
4-1. KrFレジスト
(1) エキシマレーザリソグラフィ実現への課題
(2) 光源・光学系の課題
(3) 化学増幅型レジストの課題
(4) 材料からの改良
(5) プロセス面からの改良
(6) 実用化されたレジスト材料
4-2. ArFレジスト
(1) ArFレジスト実現への課題
(2) 課題克服へのイノベーション
材料からのアプローチ、プロセスからのアプローチ
4-3. 液浸リソグラフィ
(1) 液浸リソグラフィプロセス
(2) レジスト材料への展開
５． EUVリソグラフィ
5-1. 光源・露光機の開発
5-2. レジスト開発
開発現状と課題／LERの要因と対応
5-3. 無機レジスト
感度・解像度／保存安定性
5-4. EUVLの課題
光源／露光装置／マスク／レジスト／評価装置
６． 今後の展望
6-1. 高解像度化と現像プロセス
現像過程での膨潤と解像度
6-2. 今後のパターン形成プロセス
6-3. ナノインプリント技術の実用化
７． 科学技術と社会(半導体と人間)
7-1. 実装材料（ポリイミド）
半導体と人とのインターフェイス形成材料
7-2. フラットパネルディスプレイ材料
半導体と人とのインターフェイス
7-3. ブレインマシンインターフェイス(BMI)
7-4. 科学技術と社会(地球規模の課題と科学技術/半導体)
８． 国の安全保障の根幹を担う半導体産業
8-1. 半導体産業の重要性
8-2. 日本および世界の半導体産業の現状
8-3. 経産省の戦略
8-4. 再生のための論点
９． 効率的にイノベーションを創出するために
知的財産戦略とMOT
１０． まとめ
【質疑応答】