半導体露光装置に関する技術動向が分かりやすく把握できる!パテントマップおよびパテントチャートで視覚的に理解しやすい!パテントマップViewer(添付ソフト)により、パテントマップおよびパテントチャートの当該部分に含まれる詳細内容を調べることができる!

特許情報分析(パテントマップ)から見た半導体露光装置
〔テーマ別動向予測シリーズ〕

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商品概要
略称
半導体露光装置
商品No
bk5250
発刊日
2011年11月15日(火)
体裁
A4判244頁〔Viewerソフト添付〕〔カラー印刷〕 
価格
73,500円(税込)
送料
当社負担(国内)
発行
(株)パテントテック社
問い合わせ
(株)R&D支援センター TEL:03-5857-4811 MAIL:info@rdsc.co.jp
書籍の内容

1.調査目的:
 「半導体露光装置」に関する公開件数、発明者、および特許分類などに対し、時系列推移、技術分布図など様々な観点から分析したパテントマップおよび、パテントチャートを作成し、
  ① どの関連企業にどのような技術の公開があるか、
  ② 各企業の技術開発動向はどのように推移しているか、
  ③ 最近注目する技術は何なのか、
  ④ 各企業間の連携状況はどのようになっているか
等を明確にして、今後の開発の指針決定に役立てようとするものである。
2.特許情報の収集と処理:
 本調査報告書は、「半導体露光装置」に関する過去10年間(国内公開日:2001年~2010年)に及ぶ公開特許について、「特許検索ASPサービスSRPARTNER」((株)日立システムズ 製)を使用し、検索、収集した。報告書作成にはパテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」(インパテック(株)製)を使用した。特許情報公報の総数は39,296件である。


3.報告書の構成:
 本報告書は、次の三つの部分から構成されている。
 Ⅰ. パテントマップ編
   A.全般分析
   B.詳細(出願人、特許分類、キーワード)分析
  ※キーワード(発明の名称、要約、請求の範囲から抽出)においては、
  下記3グループの観点からも分析を行った。
   ①露光種類系キーワード(紫外線露光・光露光、密着露光など13個)
   ②露光制御系キーワード(光線、露光量など13個)
   ③手段・装置系キーワード(基板処理手段・装置など20個)
   ④目的・効果系キーワード(高精度、容易など18個)
   ⑤基板系キーワード(ガラス基板、シリコン基板など13個)
 Ⅱ. パテントチャート編
 Ⅲ. 総括コメント

4.本報告書の特徴
● 「半導体露光装置」に関する技術動向が分かりやすく把握できる
● パテントマップおよびパテントチャートで視覚的に理解しやすい
● パテントマップViewer(添付ソフト)により、パテントマップおよびパテントチャートの
当該部分に含まれる特許の詳細内容を調べることができる



【詳細】
Ⅰ.パテントマップ編
 A.全般分析
  A-1.全体の技術開発ライフサイクル
  A-2.公開件数の推移(年次と累計)
  A-3.出願人数の推移(年次と累計)
  A-4.新規発明者数の推移(年次と累計)
  A-5.新規FIメイングループ分類数の推移(年次と累計)
  A-6.新規FIサブグループ分類数の推移(年次と累計)
  A-7.新規Fターム分類数の推移(年次と累計)
  A-8.出願人別公開件数ランキング(上位100)
  A-9.発明者別公開件数ランキング(上位50)
  A-10.FIメイングループ分類別公開件数ランキング(上位50)
  A-11.FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位100)
  A-12.Fタームテーマコード分類別公開件数ランキング(上位50)
  A-13.Fターム分類別公開件数ランキング(上位100)
  A-14.1位Fタームテーマコード(5F146)の技術分類別件数(観点×数字)
  A-15.2位Fタームテーマコード(2H025)の技術分類別件数(観点×数字)
  A-16.発明者別公開件数グロスランキング(上位20)
  A-17.出願人別参入・撤退状況(最近40、公開件数5件以上)
  A-18.FIメイングループ分類別出現・消失状況(公開件数上位40)
  A-19.FIサブグループ分類別出現・消失状況(公開件数上位40)
  A-20.Fターム分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
  A-21.出願人別公開件数伸長率(上位50、件数差15件以上)
  A-22.発明者別公開件数伸長率(上位50、件数差35件以上)
  A-23.FIメイングループ分類別公開件数伸長率(上位50、件数差7件以上)
  A-24.FIサブグループ分類別公開件数伸長率(上位50、件数差10件以上)
  A-25.Fターム分類別公開件数伸長率(上位50、件数差600件以上)
  A-26.FIメイングループ分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差20名以上)
  A-27.FIサブグループ分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差25名以上)
  A-28.Fターム分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差500名以上)
 B.詳細(出願人、特許分類、キーワード)分析
  B-1.上位20出願人比較分析
    B-1-1.公開件数比較(期間着目:2期間+全体)
    B-1-2.公開件数の推移(累計)
    B-1-3.共同出願人数の推移(累計)
    B-1-4.新規発明者数の推移(累計)
    B-1-5.新規FIメイングループ分類数の推移(累計)
    B-1-6.新規FIサブグループ分類数の推移(累計)
    B-1-7.新規Fターム分類数の推移(累計)
    B-1-8.新規キーワード数の推移(累計)
    B-1-9.上位20FIメイングループ分類との公開件数相関
    B-1-10.上位20FIサブグループ分類との公開件数相関
    B-1-11.上位20Fターム分類との公開件数相関
    B-1-12.Fタームテーマコード分類ランキング2位と3位における公開件数比較
    B-1-13.種類系キーワードとの公開件数相関
    B-1-14.露光制御系キーワードとの公開件数相関
    B-1-15.手段・装置系キーワードとの公開件数相関
    B-1-16.目的・効果系キーワードとの公開件数相関
    B-1-17.基板系キーワードとの公開件数相関
    B-1-18.露光種類系キーワードとの発明者数相関
    B-1-19.露光制御系キーワードとの発明者数相関
    B-1-20.手段・装置系キーワードとの発明者数相関
    B-1-21.目的・効果系キーワードとの発明者数相関
    B-1-22.基板系キーワードとの発明者数相関
    B-1-23.公開件数占有率
    B-1-24.公開件数の伸びと1位Fターム分類[2H025AB16]に関する構成率比較
    B-1-25.発明者数*FIサブグループ分類数の比較
  B-2.上位5出願人個別分析
    B-2-1-*.FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
    B-2-2-*.Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
    B-2-3-*.FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
    B-2-4-*.Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
    B-2-5-*.FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
    B-2-6-*.キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
    B-2-7-*.独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
    B-2-8-*.独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
    B-2-9-*.共同出願人との連携
注:*は、上位5出願人が該当。
  B-3.ニコン、キヤノン2社分析
    B-3-1.2社の上位10FIサブグループ分類別公開件数の推移(年次)
    B-3-2.2社のニコン上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
    B-3-3.2社のキヤノン上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
    B-3-4.2社のFIサブグループ分類別出現・消失状況(公開件数上位20)
    B-3-5.2社のFターム分類別出現・消失状況(公開件数上位20)
    B-3-6.ニコンの公開件数伸長率変遷
    B-3-7.キヤノンの公開件数伸長率変遷
    B-3-8.2社とFターム分類(上位20)との公開件数相関
    B-3-9.Fターム分類別公開件数グロスランキング(上位10)
  B-4.上位特許分類分析
    B-4-1.FIメイングループ分類別公開件数比較(上位20)(期間着目:2期間+全体)
    B-4-2.FIサブグループ分類別公開件数比較(上位20)(期間着目:2期間+全体)
    B-4-3.Fターム分類別公開件数比較(上位20)(期間着目:2期間+全期間)
    B-4-4.FIメイングループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
    B-4-5.FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
    B-4-6.Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
    B-4-7.FIメイングループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)
    B-4-8.FIサブグループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)
    B-4-9.Fターム分類別出願人数の推移(上位20、年次)
    B-4-10.FIメイングループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)
    B-4-11.FIサブグループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)
    B-4-12.Fターム分類別発明者数の推移(上位20、年次)
    B-4-13.FIメイングループ分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
    B-4-14.FIサブグループ分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
    B-4-15.Fターム分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
  B-5.特定特許分類分析
    B-5-1.特定FIサブグループ分類の公開件数の推移(年次)
    B-5-2.特定Fターム分類の公開件数の推移(年次)
    B-5-3.特定FIサブグループ分類の新規出願人数の推移(年次)
    B-5-4.特定Fターム分類の新規出願人数の推移(年次)
    B-5-5.特定FIサブグループ分類の新規発明者数の推移(累計)
    B-5-6.特定Fターム分類の新規発明者数の推移(累計)
    B-5-7.特定FIサブグループ分類H01L21/30の公開件数伸長率変遷
    B-5-8.特定FIサブグループ分類G03F7/20の公開件数伸長率変遷
    B-5-9.特定Fターム分類2H025AB16の公開件数伸長率変遷
    B-5-10.特定Fターム分類5F146BA03の公開件数伸長率変遷
    B-5-11.特定FIサブグループ分類H01L21/30の出願人別公開件数ランキング(上位50)
    B-5-12.特定FIサブグループ分類G03F7/20の出願人別公開件数ランキング(上位50)
    B-5-13.特定Fターム分類2H025AB16の出願人別公開件数ランキング(上位50)
    B-5-14.特定Fターム分類5F146BA03の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  B-6.キーワード分析
    B-6-1.キーワード別公開件数ランキング(上位100)
    B-6-2.キーワード別出現・消失状況(最近200、公開件数10件以上)
    B-6-3.キーワード別公開件数の伸長率(上位50、件数差30件以上)
    B-6-4.露光種類系キーワードの公開件数の推移(累計)
    B-6-5.露光制御系キーワードの公開件数の推移(累計)
    B-6-6.手段・装置系キーワードの公開件数の推移(累計)
    B-6-7.目的・効果系キーワードの公開件数の推移(累計)
    B-6-8.基板系キーワードの公開件数の推移(累計)
    B-6-9.露光種類系キーワードの出願人数の推移(累計)
    B-6-10.露光制御系キーワードの出願人数の推移(累計)
    B-6-11.手段・装置系キーワードの出願人数の推移(累計)
    B-6-12.目的・効果系キーワードの出願人数の推移(累計)
    B-6-13.基板系キーワードの出願人数の推移(累計)
    B-6-14.露光種類系キーワードの新規発明者数の推移(累計)
    B-6-15.露光制御系キーワードの新規発明者数の推移(累計)
    B-6-16.手段・装置系キーワードの新規発明者数の推移(累計)
    B-6-17.目的・効果系キーワードの新規発明者数の推移(累計)
    B-6-18.基板系キーワードの新規発明者数の推移(累計)
    B-6-19.露光種類系キーワードの公開件数の伸びと構成率比較
    B-6-20.露光制御系キーワードの公開件数の伸びと構成率比較
    B-6-21.手段・装置系キーワードの公開件数の伸びと構成率比較
    B-6-22.目的・効果系キーワードの公開件数の伸びと構成率比較
    B-6-23.基板系キーワードの公開件数の伸びと構成率比較
    B-6-24.露光種類系キーワードと露光制御系キーワードの公開件数相関
    B-6-25.露光種類系キーワードと手段・装置系キーワードの公開件数相関
    B-6-26.露光種類系キーワードと目的・効果系キーワードの公開件数相関
    B-6-27.露光種類系キーワードと基板系キーワードの公開件数相関
    B-6-28.露光制御系キーワードと手段・装置系キーワードの公開件数相関
    B-6-29.露光制御系キーワードと目的・効果系キーワードの公開件数相関
    B-6-30.露光制御系キーワードと基板系キーワードの公開件数相関
    B-6-31.手段・装置系キーワードと目的・効果系キーワードの公開件数相関
    B-6-32.手段・装置系キーワードと基板系キーワードの公開件数相関
    B-6-33.目的・効果系キーワードと基板系キーワードの公開件数相関

Ⅱ.パテントチャート編
 C-1.小松製作所の時系列チャート分析(2009年~2010年)
 C-2.三菱電機の時系列チャート分析(2009年~2010年)
 C-3.小松製作所の上位3FIメイングループ分類と上位3発明者のマトリクスチャート分析(2009年~2010年)
 C-4.三菱電機の上位3FIメイングループ分類と上位3発明者のマトリクスチャート分析(2009年~2010年)

Ⅲ.総括コメント
参考資料
【資料1】出願人統合リスト
【資料2】パテントマップ・パテントチャートの種別と見方
【資料3】パテントマップViewer(添付ソフト)の使い方

キーワード
半導体露光,装置,パテント,技術,特許,調査,動向,情報,ニコン,キヤノン,書籍
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