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半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要です。
洗浄技術だけでなく次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術も解説します!

半導体製造における洗浄技術の基礎と技術トレンド【LIVE配信】

※本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです。会場での参加はございません。

セミナー概要

略称
半導体洗浄【WEBセミナー】
セミナーNo.
開催日時
2020年11月24日(火)12:30~16:30
主催
(株)R&D支援センター
問い合わせ
Tel:03-5857-4811 E-mail:info@rdsc.co.jp 問い合わせフォーム
開催場所
【WEB限定セミナー】※在宅、会社にいながらセミナーを受けられます 
講師
オフィスシラミズ 室長 博士(工学) 白水 好美 氏

<専門>
 半導体洗浄、クリーン化、微量分析技術

<活動等>
 SEMI シリコンウェーハ委員会テストメソッドタスクフォース委員
 IRDS 歩留向上委員会メンバー
 2008年5月 公益社団法人空気清浄協会 感謝状 白水好美 
 2013年12月 SEMI JRSC(日本地区スタンダード委員会) 功労賞 白水好美
価格
非会員: 49,500円(税込)
会員: 46,200円(税込)
学生: 価格未設定
価格関連備考
会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で49,500円(税込)から
 ★1名で申込の場合、46,200円(税込)へ割引になります。
 ★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,500円(2人目無料)です。
■会員登録とは? ⇒ よくある質問
定員
30名 ※現在、お申込み可能です。満席になり次第、募集を終了させていただきます。
備考
資料付

・本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
・「ミーティング用Zoomクライアント」をダウンロードするか、ZOOM を
  ダウンロードせず、Web ブラウザから参加するかの2種類がございます。
  ZOOM WEBセミナーのはじめかたについてはこちらをご覧ください。

・お申込み後、受理のご連絡メールをさせていただきます。
 一部メールが通常セミナー形式(受講券、請求書、会場の地図)になっておりますが
 LIVE配信のみのセミナーです。
・お申込み後、接続テスト用のURL(https://zoom.us/test)から
「ミーティングテストに参加」を押していただき動作確認をお願いします。
・後日、別途視聴用のURLをメールにてご連絡申し上げます。
・セミナー開催日時の10分前に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
・セミナー資料は前日までPDFデータとしてお送りいたします。
 ご自宅への送付を希望の方はコメント欄にご住所などをご記入ください。
・ご質問については、オープンにできるご質問をチャットにご記入ください。
 個別相談(他社に知られたくない)のご質問は後日メールにて講師と直接お願いします。
・タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。

講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの
複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。

講座の内容

習得できる知識
半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であることが理解できる。
趣旨
 半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こす。序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。洗浄以外の汚染制御技術に関して紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。洗浄技術は半導体デバイスの品質の向上のために必要である。洗浄の意義を一緒に考えましょう!
プログラム
1.序論-汚染が半導体デバイスに与える影響
 1-1.金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル
 1-2.分子汚染(HN3, アミン、有機物、酸性ガス成分)
 1-3.各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術

2.洗浄技術
 2-1.RCA洗浄
 2-2.各種洗浄液と洗浄メカニズム(薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄)
 2-3.洗浄プロセスの動向
 2-4.最先端の洗浄技術とその問題点

3.その他の汚染制御技術
 3-1.工場設計
 3-2.ウェーハ保管、移送方法

4.次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
 4-1.新洗浄乾燥技術(超臨界CO2洗浄乾燥、PK(パターンキーパー)剤乾燥)
 4-2.次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題
キーワード
半導体,汚染,制御,洗浄,乾燥,メカニズム,パーティクル,解析,モニタリング,セミナー

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