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☆真空蒸着、スパッタ、CVDなどの成膜技術について、基礎から実務への活用法わかりやすくを解説!
 若手や初学者の方にも最適な講座!

薄膜作製の基礎とトラブル対策【大阪開催】

※会場が変更になりました(4/24更新)
ドーンセンター → 滋慶医療科学大学院大学 9F 視聴覚大講義室

※受付を終了しました。最新のセミナーはこちら

セミナー概要

略称
薄膜【大阪開催】
セミナーNo.
180730  
開催日時
2018年07月03日(火)10:30~16:30
主催
(株)R&D支援センター
問い合わせ
Tel:03-5857-4811 E-mail:info@rdsc.co.jp 問い合わせフォーム
開催場所
滋慶医療科学大学院大学 9F 視聴覚大講義室
価格
非会員: 49,980円(税込)
会員: 47,250円(税込)
学校関係者: 10,800円(税込)
価格関連備考
会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で49,980円(税込)から
 ★1名で申込の場合、47,250円(税込)へ割引になります。
 ★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,980円(2人目無料)です。
学校関係者価格は、企業に在籍されている研究員の方には適用されません。
■ 会員登録とは? ⇒ よくある質問
備考
昼食・資料付

講座の内容

受講対象・レベル
・薄膜作製に関連する研究・開発・製造業務にたずさわって2~3年の若手技術者や新人の方
・薄膜作製に関してある程度の経験はあるが、自分の知識を系統的に整理したい方
必要な予備知識
高等学校程度の物理、化学および数学の知識。できるだけ初学者の方でも理解できるよう、数式等の使用は最小限にして解説します
習得できる知識
・成膜プロセス設計に必要な基礎知識
・成膜プロセスで発生したトラブル対応に必要な基礎知識
趣旨
 スパッタ法や真空蒸着法、化学気相成長(CVD)法は、先端材料研究をはじめ、電子デバイス,太陽電池,建材、さらには食品産業まで、さまざまな分野で使用されており、今や我々の生活と切っても切り離せない技術になっています。エレクトロニクスや真空技術の進歩により、現在では高性能な成膜装置が市販されていますが、これらを使いこなすには適切な知識が必要です。たとえば、新たな条件で成膜を行おうとすると、所望の薄膜を得るために条件出しを行わなければなりません。また、成膜プロセスでトラブルが発生すると、その対処に頭を悩ませることになります。そのようなときに必要になるのが、成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。
 本講座では、真空蒸着法やスパッタ法、CVD法などを用いた成膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。
プログラム
1.成膜技術に必要な真空・表面物性工学
 1-1. 気体分子運動論の基礎
 1-2. 真空工学の基礎
 1-3. 表面物性工学の基礎

2.真空蒸着法
 2-1. 真空蒸着法の原理
 2-2. 真空蒸着法の種類と装置例
 2-3. 真空蒸着法で作製される薄膜の例
 2-4. 真空蒸着法を適用する際の留意事項

3.スパッタ法
 3-1. スパッタ法の原理  
 3-2. スパッタ法の種類と装置例
 3-3. スパッタ法で作製される薄膜の例
 3-4. スパッタ法を適用する際の留意事項

4.化学気相成長(CVD)法
 4-1. CVD法の原理  
 4-2. CVD法の種類と装置例
 4-3. CVD法で作製されるさまざまな薄膜の例
 4-4. CVD法を適用する際の留意事項

5.薄膜評価法
 5-1 表面モルフォロジ、ステップカバレッジ
 5-2 膜組成、膜構造
 5-3 付着力、膜応力
 5-4 電気的特性、光学的特性

6.成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法
 6-1 膜質に関するトラブル
 6-2 装置に関するトラブル

 【質疑応答・名刺交換】
キーワード
薄膜,成膜,蒸着,スパッタ,CVD,評価,セミナー,研修,講習

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