※オンライン会議アプリzoomを使ったWEBセミナーです。ご自宅や職場のノートPCで受講できます。
1.半導体の基礎
1-1.半導体とは
1-2.半導体の歴史
1-3.CMOSデバイスの動作原理
1-4.各種メモリの動作原理
1-5.半導体製造プロセス
2.半導体微細加工技術
2-1.半導体微細加工とは
2-2.半導体微細加工の必要性
2-3.半導体微細加工の歴史
2-4.半導体ロードマップ(IRDS)
3.先端半導体微細加工技術の現状、課題、今後の動向
3-1.ArF液浸リソグラフィー技術
3-2.極端紫外線リソグラフィー技術
3-3.ナノインプリント技術
3-4.自己組織化技術
3-5.リソグラフィー技術の今後
4.レジスト材料プロセス技術
4-1.レジストの歴史
4-2.レジスト材料プロセス技術の現状と課題
4-3.放射光を用いたレジスト評価技術
4-4.レジスト材料プロセス技術の今後
5.世界おける日本の半導体技術覇権について
5-1.課題
5-2.課題解決に向けた今後の必要な取り込み
6.まとめ
【質疑応答】