☆半導体洗浄の装置・薬液の種類といった基礎的な内容から、次世代半導体の洗浄課題、洗浄・乾燥の最新技術について解説します!
※本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです。会場での参加はございません。
1.なぜ半導体洗浄が必要か
1-1. 基本的な半導体製造プロセス
1-2. 半導体製造における洗浄の位置づけ
1-3. 洗浄対象物
2.どのように半導体洗浄を行うか
2-1. 洗浄装置の種類
2-2. 洗浄薬液の種類
2-3. 洗浄原理
3.次世代半導体の洗浄
3-1. 半導体デバイスのトレンド
3-2. 洗浄の技術的課題
3-3. 洗浄装置に求められる機能
4.洗浄の技術トレンド
4-1. 過去の洗浄技術
4-2. 最新の洗浄技術
5.乾燥の技術トレンド
5-1. 過去の乾燥技術
5-2. 最新の乾燥技術
6.まとめ