異種デバイス集積化に向かう半導体パッケージのプロセス技術と最新動向【WEBセミナー】
~ チップレットSiPの基礎とFan Out型パッケージの三次元化を中心に ~
※受付を終了しました。最新のセミナーはこちら
セミナー概要
- 略称
- 半導体パッケージ【WEBセミナー】
- セミナーNo.
-
cmc210201
- 開催日時
- 2021年02月01日(月)13:30~16:30
- 主催
- (株)シーエムシー・リサーチ
- 問い合わせ
- Tel:03-5857-4811 E-mail:info@rdsc.co.jp 問い合わせフォーム
- 開催場所
- 【WEB限定セミナー】※在宅、会社にいながらセミナーを受けられます
- 価格
- 非会員: 44,000円(税込)
会員: 39,600円(税込)
学生: 44,000円(税込) - 価格関連備考
- 1名につき 44,000円(税込)※ 資料付
メール会員登録者は 39,600円(税込)
★【メルマガ会員特典】2名以上同時申込で申込者全員メルマガ会員登録をしていただいた場合、2名目は無料、3名目以降はメルマガ価格の半額です。
★ セミナーお申込み後のキャンセルは基本的にお受けしておりません。ご都合により出席できなくなった場合は代理の方がご出席ください。 - 備考
- ・本セミナーは、当日ビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
お申し込み前に、下記リンクから視聴環境をご確認ください。
→ https://zoom.us/test
・当日はリアルタイムで講師へのご質問も可能です。
・タブレットやスマートフォンでも視聴できます。
・お手元のPC等にカメラ、マイク等がなくてもご視聴いただけます。この場合、音声での質問はできませんが、チャット機能、Q&A機能はご利用いただけます。
・ただし、セミナー中の質問形式や講師との個別のやり取りは講師の判断によります。ご了承ください。
・「Zoom」についてはこちらをご参照ください。
講座の内容
- 受講対象・レベル
- ・ 最近の先端半導体パッケージのプロセス技術に関心のある方
・ FOWLP/PLPの開発動向、市場動向に関心のある方
・ LCDパネル関連の方 - 習得できる知識
- ・ チップレットSiPの基礎になるBump、再配線、TSV、Fan-Outパッケージプロセスの基礎知識
・ 異種デバイスの三次元集積化プロセスの基礎
・ FOPLP市場形成の論点整理と技術課題
・ 最近の半導体パッケージの役割を理解するための配線階層を横断する視点 - 趣旨
- 最新のプロセッサ製品は機能別に分割した複数の異種チップとメモリをSiインタポーザやSiPに集積する”チップレット”構造を採用し始め、モジュール性能向上へ拡張する半導体パッケージの役割の変化が顕在化しています。さらに、パネルレベルパッケージプロセスは既存のパッケージ基板、PCB、LCDパネルの業態の変化を促し、新たなエコシステムを構築しつつあります。本セミナーでは、半導体デバイス集積化の基幹技術であるMicro-Bump、再配線、TSV、FOWLP、三次元デバイス積層のプロセスの基礎を再訪し、再配線の微細化、FOWLP/PLPの三次元化の課題を整理しながら、異種デバイスの三次元集積化を見据えた今後の市場動向と技術動向を展望します。
- プログラム
- 1.半導体パッケージの役割の変化
1.1.後工程の前工程化
1.2.中間領域プロセスによる価値創出事例
1.3.チップレットSiP
2.三次元集積化デバイス形成プロセス技術と最新動向
2.1.広帯域メモリチップとロジックチップの積層化
a)Logic-on-DRAM SoCデバイス
b)InFO POP
c)2.5Dインテグレーション
2.2.中間領域の基幹プロセスの基礎と留意点
a)再配線形成プロセス
b)マイクロバンプ形成プロセス
c)TSV形成プロセス(via middle, back side via)
2.3.再配線の微細化の課題
a)再配線と絶縁樹脂膜の界面
b)絶縁樹脂膜の平坦化
c)LSIダマシン配線と再配線の構造比較
3.Fan-Out 型パッケージプロセス技術と最新動向
3.1.FOWLPプロセスの基礎と留意点
a)Chip FirstとRDL First
b)再構成モールド樹脂基板の反りとチップシフト
c)プロセスインテグレーション課題
d)FOWLPのコスト構造参考事例
3.2.三次元FOWLPのThrough Mold Interconnect(TMI)
a)CuピラーTMI
b)垂直ワイヤーボンドTMI
c)感光性モールドによるTMIと再配線の一括形成
4.Fan-Out Panel Level Package(FOPLP)の課題
4.1.量産化へ向けて克服すべき課題
4.2.装置開発事例
5.半導体パッケージの開発動向及び市場動向
5.1.三次元集積化開発の動向
a)Hybrid Panel FOによるメモリ多段積層
b)ウエーハ積層による異種デバイス集積化
c)CoWによる異種デバイス集積化
5.2.最近の市場概観
5.3.今後の商流と事業主体の変化
6.まとめ
関連するセミナー
- 03/16 スパッタリングの基礎と薄膜における内部応力抑制および付着力向上【LIVE配信】
- 03/23 中国5Gの最新市場動向【LIVE配信】
-
03/24 積層セラミックコンデンサ(MLCC)の
設計、材料技術、開発動向と課題【WEBセミナー】 - 03/29 レジスト材料・リソグラフィ技術の基礎と開発及びプロセスの不良防止・トラブル対策への応用【LIVE配信】
- 03/29 半導体パッケージ技術の基礎講座【WEBセミナー】
- 04/16 半導体洗浄の基礎とクリーン化技術のノウハウ【LIVE配信】
- 04/22 三次元実装/TSVおよび先端半導体パッケージの最新技術と研究開発動向【LIVE配信】
- 04/23 最新CMP技術 徹底解説【LIVE配信】
- 04/26 車載半導体の品質保証 5時間集中講座【WEBセミナー】
-
04/28 圧電薄膜技術とその測定法および圧電MEMSデバイスの最新動向
【LIVE配信】
関連する書籍・DVD
- 特許情報分析(パテントマップ)から見た半導体集積回路
- 酸化物半導体薄膜技術の全て(第2弾)
- 特許情報分析(パテントマップ)から見た特定用途向け半導体
- ノボラックレジスト 材料とプロセスの最適化
- 特許情報分析(パテントマップ)から見たパワー半導体〔2020年版〕
- 特許情報分析(パテントマップ)から見たCMOSイメージセンサ〔2019年版〕
- 酸化物半導体薄膜技術の全て
- パルスパワーの基礎と産業応用
- エポキシ樹脂の高機能化と上手な使い方
- 特許情報分析(パテントマップ)から見たレーザ加工〔2018年版〕