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半導体デバイスの物理的洗浄手法【WEBセミナー】
～半導体の構造、静電気障害対策から先端の洗浄法まで～

※受付を終了しました。最新のセミナーはこちら

セミナー概要
略称
半導体デバイス洗浄【WEBセミナー】
セミナーNo.
tr241002
開催日時
2024年10月03日（木） 13:00～16:00
主催
（株）トリケップス
問い合わせ
Tel：03-5857-4811　E-mail：info@rdsc.co.jp　問い合わせフォーム
開催場所
【WEB限定セミナー】※会社やご自宅でご受講下さい。　
価格
非会員： 51,700円（税込）
会員： 51,700円（税込）
学生： 51,700円（税込）
価格関連備考
お1人様受講の場合　51,700円[税込]／1名
1口でお申込の場合　66,000円[税込]／1口（3名まで受講可能）

※4名以上お申し込みの場合は、ご連絡ください。
備考
★本セミナーの受講にあたっての推奨環境は「Zoom」に依存しますので、ご自分の環境が対応しているか、お申込み前にZoomのテストミーティング（http://zoom.us/test）にアクセスできることをご確認下さい。

★インターネット経由でのライブ中継のため、回線状態などにより、画像や音声が乱れる場合があります。講義の中断、さらには、再接続後の再開もありますが、予めご了承ください。

★受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。
講座の内容
趣旨

　近年、半導体デバイスの進化はものすごいスピードを進んでいます。このセミナーは半導体デバイスの物理的洗浄に関して説明を行います。
　セミナーでは半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向から半導体の基礎、流体力学、から説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明します。また、講演者が専門としている半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介します。基礎的なことからお話しますので、半導体デバイス洗浄に関わる3～4年の方や半導体デバイス洗浄にビジネスをお探しの方に最適かと思います。
プログラム

　1　半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向

　2　半導体デバイスの物理的洗浄の必要性
　　2.1　半導体デバイスの基礎
　　2.2　半導体製造プロセス
　　2.3　半導体デバイス製造プロセスにおける洗浄の必要性
　　2.4　化学的洗浄と物理的洗浄

　3　水流を利用した洗浄について
　　3.1　流体力学の基礎
　　3.2　高圧スプレー洗浄
　　3.3　二流体スプレー洗浄
　　3.4　超音波洗浄スプレー洗浄
　　3.5　ブラシ洗浄
　　3.6　次世代の物理的洗浄技術

　4　スプレー洗浄時の静電気障害
　　4.1　静電気の基礎
　　4.2　半導体デバイスの洗浄の静電気障害
　　4.3　スプレー時に発生する静電気と静電気障害のメカニズム

　5　最先端の洗浄方法（表面処理）
　　＊学会等からの情報

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