2015年06月19日（金）
10:30～16:30
Tel：03-5857-4811 E-mail：info@rdsc.co.jp
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非会員：
50,906円
（本体価格：46,278円）
会員：
48,125円
（本体価格：43,750円）
学生：
11,000円
（本体価格：10,000円）
会員（案内）登録していただいた場合、通常1名様申込で49,980円（税込）から
★1名様申込の場合、47,250円（税込）へ割引になります。
★2名様同時申込の場合、2人目無料（2名で49,980円）になります。
学校関係者価格は、企業に在籍されている研究員の方には適用されません。
30名 ※現在、お申込み可能です。満席になり次第、募集を終了させていただきます。
初めてレジスト材料を扱う方、レジストを使用して製品・開発を生産する方、レジスト分野の技術指導をする方など、初心者から実務者まで広範囲の方を対象としています。
レジストを使用する上での基本的な考え方、ノウハウ、最適化法、トラブル対処法、などが習得できます。
現在、フォトレジストは、産業の様々な分野で広く利用されています。しかし、その高度化に伴い、フォトレジストの品質が製品に与える影響も深刻化しています。本セミナーでは、これからレジスト材料を使用する方、レジストリソグラフィでトラブルを抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、評価・解決のアプローチを丁寧に説明します。また、研究開発・トラブルフォローといった実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説します。初心者にも分かりやすく、基礎から学べる内容となっています。受講者が抱えている日々のトラブル相談にも応じます。
１．レジスト・リソグラフィ入門
1-1 リソグラフィプロセスの基礎（レジストとは？）
1-2 レジストコントラストの理解（なぜコントラストが重要か？）
1-3 段差部でのパターン形状設計（膜内多重反射、バルク効果）
1-4 先端リソグラフィ（位相シフトマスク、液浸リソグラフィ）
1-5 エッチングマスクとしてのレジストパターン
1-6 検査技術（SEM、AFMのポイント）
２．レジストトラブルの発生メカニズムと対策
2-1 レジスト付着性を促進する要因（表面エネルギー、凝集力、応力緩和）
2-2 レジスト付着性を低下させる要因（応力集中、溶液浸透、パターン間メニスカス）
2-3 表面エネルギーからレジスト付着性を予測する
（付着エネルギーWa、拡張係数S、円モデル）
2-4 ドライ中での付着性は溶液中と逆の結果になる（γｐ効果、最適条件の設定法）
2-5 HMDS処理はレジスト膜の付着性を低下させる
（処理温度と処理時間、付着性と密着性の差）
2-6 Al膜上でのレジスト付着不良（WBL、複合表面処理）
2-7 パターン凸部は凹部よりも剥離しやすい（応力集中効果、表面硬化層の影響）
2-8 レジスト膜の応力をin-situ測定する（応力緩和と発生、乾燥プロセス変動）
2-9 レジスト膜の膨潤をモニタする（アルカリ液の浸透、屈折率評価、導電性解析）
2-10 レジスト膜の欠陥発生メカニズムと対策
（環境応力亀裂、濡れ不良、ポップアップ）
2-11 ドライフィルムレジスト（DFR）の付着性（メッキ時のEaves不良）
2-12 ナノインプリントにおける剥離残差対策（疎水化による離型処理）
2-13 ウォーターマーク（乾燥痕）はこうして発生する
（乾燥メカニズム、液体内の対流効果、微粒子凝集、パターン形状依存性）
2-14 レジスト表面の微小気泡対策（気泡のピンニング効果）
３．レジスト材料プロセスの高品位化
3-1 微小パターンの物性（表面サイズ効果、相互作用因子とは）
3-2 レジストパターン1個の付着力を実測する
（DPAT法、ナノサイズの付着力の実験式）
3-3 高分子集合体をマニピュレーションする（レジストパターンからの集合体分離）
3-4 レジスト膜中のナノ空間を見る（vacancy、パターン構造設計）
3-5 レジストパターン１個のヤング率を実測する（測定方法、強度設計）
3-6 レジスト膜表面にはナノ硬化層が存在する
（AFMインデンテーション法、断面硬化層分布、LER評価）
3-7 レジスト膜表面のナノ気泡を見る（AFMナノバブル観察）
４．技術開発および各種トラブル相談（日頃のトラブルサポートなど）
