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先端成膜技術の開発動向

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セミナー概要

略称
先端成膜技術
セミナーNo.
jms171003  
開催日時
2017年10月13日(金)09:55~16:35
主催
(株)ジャパンマーケティングサーベイ
問い合わせ
Tel:03-5857-4811 E-mail:info@rdsc.co.jp 問い合わせフォーム
開催場所
東京都中央区総合スポーツセンター  4F 第1・2会議室
価格
非会員: 53,784円(税込)
会員: 53,784円(税込)
学校関係者: 53,784円(税込)
価格関連備考
1名様 53,784円(49,800円+税) ※テキスト及び昼食を含む

講座の内容

趣旨
スパッタと真空蒸着による成膜および、ゾル‐ゲル法による成膜/パターニング技術・開発動向について、詳細に解説して頂くことにより、関連業界の方々の今後の事業に役立てて頂くことを目的とします。
プログラム

1.スパッタと真空蒸着による成膜技術

  1. 真空中での薄膜形成は如何に成されるか?
    核形成と島状成長、スバッタのソーントンモデル、真空中の熱問題、応力と付着力、
    膜厚均一性など
  2. 高真空作成のポイント 水の排気の真実とは?
    堀越モデルでの水の排気を理解する、パージとは何か、
    クライオポンプとTMPの排気はどこが異なるのか?
  3. スパッタリングは蒸着と何処が異なるのか?
    スパッタリングの本質論、スパッタのダメージとは何か、スパッタのIV特性とマッチング
  4. 真空・蒸着・スパッタは進歩しているか?
    最近の話題


2.ゾル‐ゲル法による成膜/パターニング技術

  1. ゾル-ゲル法の概要
  2. ゾル-ゲル法の成膜/パターニング技術への応用
  3. 技術開発動向
  4. 課題・問題点
  5. 将来展望

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