☆真空蒸着法、スパッタ法、CVD法などの成膜技術について、基礎から実務への活用法をわかりやすく解説します
 また、薄膜評価法や成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法についても解説します

薄膜作製の基礎とトラブル対策 ~スパッタ、真空蒸着、CVD~【LIVE配信】
 
オンライン会議アプリZoomを使ったWEBセミナーです。ご自宅や職場のノートPCで受講できます。

セミナー概要
略称
薄膜【WEBセミナー】
セミナーNo.
210856
開催日時
2021年08月18日(水) 10:30~16:30
主催
(株)R&D支援センター
問い合わせ
Tel:03-5857-4811 E-mail:info@rdsc.co.jp 問い合わせフォーム
講師
三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 准教授 博士(工学) 佐藤 英樹 氏

【ご専門】
 薄膜・表面物性工学、ナノ材料工学
【ご略歴】
 1996〜2000 アネルバ(株)(現 キヤノンアネルバ) 半導体装置事業部 技術担当
 上記期間中、量産用スパッタリング装置、プラズマCVD装置およびMOCVD装置の開発業務に従事
 2000〜2007 三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 助手
 2007〜現在 同 准教授
 2002〜2003 米国ノースカロライナ大学チャペルヒル校 客員研究員
 上記期間中、各種成膜法を使用したナノカーボン材料の合成およびその応用に関する研究に従事
【ご所属学会】
 応用物理学会、日本真空学会、日本表面科学会、フラーレン・ナノチューブ・グラフェン学会 会員
価格
非会員:  49,500円 (本体価格:45,000円)
会員:  33,000円 (本体価格:30,000円)
学生:  49,500円 (本体価格:45,000円)
価格関連備考
会員(案内)登録していただいた場合、通常1名様申込で49,500円(税込)から
 ★1名で申込の場合、33,000円(税込)へ割引になります。
 ★2名同時申込で両名とも会員登録をしていただいた場合、計49,500円(2人目無料)です。
■会員登録とは? ⇒ よくある質問
備考
【Zoomを使ったWEB配信セミナー受講の手順】
1)Zoomを使用されたことがない方は、こちら からミーティング用Zoomクライアントを
  ダウンロードしてください。ダウンロードできない方はブラウザ版でも受講可能です。
2)セミナー前日までに必ず動作確認をお願いします。Zoom WEBセミナーのはじめかたに
  ついては こちら をご覧ください。
3)開催日直前にWEBセミナーへの招待メールをお送りいたします。当日のセミナー開始
  10分前までに招待メールに記載されている視聴用URLよりWEB配信セミナーにご参加
  ください。

・セミナー資料は開催前日までにお送りいたします。
 ご自宅への送付を希望の方はコメント欄にご住所などをご記入ください。
 無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。
講座の内容
受講対象・レベル
・薄膜作製に関連する研究・開発・製造業務にたずさわって2~3年の若手技術者や新人の方
・薄膜作製に関してある程度の経験はあるが、自分の知識を系統的に整理したい方
必要な予備知識
高等学校程度の物理、化学および数学の知識。できるだけ初学者の方でも理解できるよう、数式等の使用は最小限にして解説します
習得できる知識
・成膜プロセス設計に必要な基礎知識
・成膜プロセスで発生したトラブル対応に必要な基礎知識
趣旨
 スパッタ法や真空蒸着法、化学気相成長(CVD)法は、先端材料研究をはじめ、電子デバイス,太陽電池,建材、さらには食品産業まで、さまざまな分野で使用されており、今や我々の生活と切っても切り離せない技術になっています。エレクトロニクスや真空技術の進歩により、現在では高性能な成膜装置が市販されていますが、これらを使いこなすには適切な知識が必要です。たとえば、新たな条件で成膜を行おうとすると、所望の薄膜を得るために条件出しを行わなければなりません。また、成膜プロセスでトラブルが発生すると、その対処に頭を悩ませることになります。そのようなときに必要になるのが、成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。
 本講座では、真空蒸着法やスパッタ法、CVD法などを用いた成膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。
プログラム

1.成膜技術に必要な真空・表面物性工学
 1-1. 気体分子運動論の基礎
 1-2. 真空工学の基礎
 1-3. 表面物性工学の基礎

2.真空蒸着法
 2-1. 真空蒸着法の原理
 2-2. 真空蒸着法の種類と装置例
 2-3. 真空蒸着法で作製される薄膜の例
 2-4. 真空蒸着法を適用する際の留意事項

3.スパッタ法
 3-1. スパッタ法の原理  
 3-2. スパッタ法の種類と装置例
 3-3. スパッタ法で作製される薄膜の例
 3-4. スパッタ法を適用する際の留意事項

4.化学気相成長(CVD)法
 4-1. CVD法の原理  
 4-2. CVD法の種類と装置例
 4-3. CVD法で作製されるさまざまな薄膜の例
 4-4. CVD法を適用する際の留意事項

5.薄膜評価法
 5-1 表面モルフォロジ、ステップカバレッジ
 5-2 膜組成、膜構造
 5-3 付着力、膜応力
 5-4 電気的特性、光学的特性

6.成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法
 6-1 膜質に関するトラブル
 6-2 装置に関するトラブル

キーワード
薄膜,成膜,蒸着,スパッタ,CVD,評価,セミナー,研修,講習
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