2021年08月18日（水）
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・薄膜作製に関連する研究・開発・製造業務にたずさわって2～3年の若手技術者や新人の方
・薄膜作製に関してある程度の経験はあるが、自分の知識を系統的に整理したい方
高等学校程度の物理、化学および数学の知識。できるだけ初学者の方でも理解できるよう、数式等の使用は最小限にして解説します
・成膜プロセス設計に必要な基礎知識
・成膜プロセスで発生したトラブル対応に必要な基礎知識
スパッタ法や真空蒸着法、化学気相成長（CVD）法は、先端材料研究をはじめ、電子デバイス，太陽電池，建材、さらには食品産業まで、さまざまな分野で使用されており、今や我々の生活と切っても切り離せない技術になっています。エレクトロニクスや真空技術の進歩により、現在では高性能な成膜装置が市販されていますが、これらを使いこなすには適切な知識が必要です。たとえば、新たな条件で成膜を行おうとすると、所望の薄膜を得るために条件出しを行わなければなりません。また、成膜プロセスでトラブルが発生すると、その対処に頭を悩ませることになります。そのようなときに必要になるのが、成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。
本講座では、真空蒸着法やスパッタ法、CVD法などを用いた成膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。
１．成膜技術に必要な真空・表面物性工学
1-1. 気体分子運動論の基礎
1-2. 真空工学の基礎
1-3. 表面物性工学の基礎
２．真空蒸着法
2-1. 真空蒸着法の原理
2-2. 真空蒸着法の種類と装置例
2-3. 真空蒸着法で作製される薄膜の例
2-4. 真空蒸着法を適用する際の留意事項
３．スパッタ法
3-1. スパッタ法の原理
3-2. スパッタ法の種類と装置例
3-3. スパッタ法で作製される薄膜の例
3-4. スパッタ法を適用する際の留意事項
４．化学気相成長（CVD）法
4-1. CVD法の原理
4-2. CVD法の種類と装置例
4-3. CVD法で作製されるさまざまな薄膜の例
4-4. CVD法を適用する際の留意事項
５．薄膜評価法
5-1 表面モルフォロジ、ステップカバレッジ
5-2 膜組成、膜構造
5-3 付着力、膜応力
5-4 電気的特性、光学的特性
６．成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法
6-1 膜質に関するトラブル
6-2 装置に関するトラブル
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