再配線の微細化、FOWLP/PLPの三次元化はどうなるのか?を解説!
※本セミナーはZOOMを使ったLIVE配信セミナーです。会場での参加はございません。
1.最近の半導体デバイスパッケージの動向
2.後工程の高品位化と中間領域プロセスの進展
2-1.半導体デバイス性能向上への寄与
2-2.システムレベル性能向上への寄与
2-3.GlassSubstrate(Interposer)とCo-PackegedOpticsの動向
3.三次元集積化プロセスの基礎
3-1.BSPDNへ拡張するTSV
3-2.CISからNANDメモリへ市場浸透するWaferLevelHybridBonding
3-3.Logic-on-Memorychip積層から出発する要素プロセスの復習
(RDL形成,Micro-bumping,Chip-on-Chip)
3-4.Siinterposerの導入から2.5DHBMintegration,RDLinterposerへ
3-5.Sibridgeの導入からChiplet集積へ
3-6.Chip-on-WaferHybridbondingによる3.5Dintegrationと課題
3-7.SAPからDamasceneへ進展する微細RDLの多層化
4.Fan-Out(FO)型パッケージの基礎
4-1.FOWLPの市場浸透の20年
4-2.プロセス選択肢の拡大
4-3.三次元FOintegrationのコストダウン
4-4.パッケージのFO化へ向かうパワーデバイス
4-4.PanelLevelProcess(PLP)の高品位化の課題
5.市場概況と今後の開発動向
6.Q&A