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☆各種成膜技術の基礎から実務への活用法、薄膜評価法や成膜プロセスで遭遇するトラブル事例とその対処法について解説する

薄膜作製の基礎とトラブル対策 ～スパッタ、真空蒸着、CVD～【アーカイブ配信】

Zoomを使ったWEBセミナーです。在宅、会社にいながらセミナーを受けられます。

こちらは10/9,10実施WEBセミナーのアーカイブ（録画）配信です。期間中何度でも視聴できます

※受付を終了しました。最新のセミナーはこちら

セミナー概要
略称
薄膜【アーカイブ配信】
セミナーNo.
241059A
配信開始日
2024年10月11日（金）
配信終了日
2024年10月18日（金）
主催
（株）R＆D支援センター
問い合わせ
Tel：03-5857-4811　E-mail：info@rdsc.co.jp　問い合わせフォーム
価格
非会員：  55,000円 （本体価格：50,000円）
会員：  49,500円 （本体価格：45,000円）
学生：  55,000円 （本体価格：50,000円）
価格関連備考
会員の方あるいは申込時に会員登録される方は、受講料が1名55,000円（税込）から
　・1名49,500円（税込）に割引になります。
　・2名申込の場合は計55,000円（2人目無料）になります。両名の会員登録が必要です。
　・10名以上で申込される場合は大口割引がございます。
　　お気軽にメールでご相談ください。info@rdsc.co.jp
■会員登録とは？　⇒　よくある質問
備考
・視聴開始期間になりましたら、セミナー資料と視聴用URLをメールでお送りします。
セミナー資料の無断転載、二次利用や講義の録音、録画などの行為を固く禁じます。
講座の内容
受講対象・レベル
・薄膜作製に関連する研究・開発・製造業務にたずさわって2～3年の若手技術者や新人の方
・薄膜作製に関してある程度の経験はあるが、自分の知識を系統的に整理したい方
必要な予備知識
高等学校程度の物理、化学および数学の知識。できるだけ初学者の方でも理解できるよう、数式等の使用は最小限にして解説します
習得できる知識
・成膜プロセス設計に必要な基礎知識
・成膜プロセスで発生したトラブル対応に必要な基礎知識
趣旨
　スパッタ法や真空蒸着法、化学気相成長（CVD）法は、先端材料研究をはじめ、電子デバイス，太陽電池，建材、さらには食品産業まで、さまざまな分野で使用されており、今や我々の生活と切っても切り離せない技術になっています。エレクトロニクスや真空技術の進歩により、現在では高性能な成膜装置が市販されていますが、これらを使いこなすには適切な知識が必要です。たとえば、新たな条件で成膜を行おうとすると、所望の薄膜を得るために条件出しを行わなければなりません。また、成膜プロセスでトラブルが発生すると、その対処に頭を悩ませることになります。そのようなときに必要になるのが、成膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。
　本講座では、真空蒸着法やスパッタ法、CVD法などを用いた成膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。
プログラム

１．成膜技術に必要な真空・表面物性工学
　1-1.　気体分子運動論の基礎
　1-2.　真空工学の基礎
　1-3.　表面物性工学の基礎

２．真空蒸着法
　2-1.　真空蒸着法の原理
　2-2.　真空蒸着法の種類と装置例
　2-3.　真空蒸着法で作製される薄膜の例
　2-4.　真空蒸着法を適用する際の留意事項

３．スパッタ法
　3-1.　スパッタ法の原理　 
　3-2.　スパッタ法の種類と装置例
　3-3.　スパッタ法で作製される薄膜の例
　3-4.　スパッタ法を適用する際の留意事項

４．化学気相成長（CVD）法
　4-1.　CVD法の原理　 
　4-2.　CVD法の種類と装置例
　4-3.　CVD法で作製される薄膜の例
　4-4.　CVD法を適用する際の留意事項

５．薄膜評価法
　5-1　表面モルフォロジ、ステップカバレッジ
　5-2　膜組成、膜構造
　5-3　付着力、膜応力
　5-4　電気的特性、光学的特性

６．成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法
　6-1　膜質に関するトラブル
　6-2　装置に関するトラブル

キーワード
薄膜,成膜,蒸着,スパッタ,CVD,評価,セミナー
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