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1.シリカの基礎と分類
1-1 結晶性シリカと非晶質シリカの構造差
1-2 合成シリカの種類と製造プロセス
1-3 コロイド材料としてのシリカの特性
2.コロイダルシリカの構造と界面特性
2-1 コロイド粒子の定義と安定化条件
2-2 一次粒子径・二次構造と比表面積
2-3 表面シラノール基と表面電荷発現
2-4 粒子間相互作用(DLVO・非DLVO)
2-5 分散と凝集の転移メカニズム
2-6 安全性および規制動向
3.原料と前駆体化学
3-1 ケイ酸ソーダ系原料
3-2 アルコキシシラン(TEOS等)系原料
3-3 四塩化ケイ素系
3-4 不純物管理と品質設計
4.コロイダルシリカの調製法と粒子制御
4-1 イオン交換法
4-2 ストーバー法
4-3 四塩化ケイ素加水分解法
4-4 解膠法
4-5 中和法
4-6 電気透析法
4-7 表面処理型・改質型の製造技術
5.評価技術と品質管理
5-1 粒子径測定(DLS・TEM)
5-2 ζ電位・IEP評価
5-3 比表面積・細孔特性
5-4 シラノール基定量法
5-5 金属不純物・イオン管理
5-6 レオロジー評価
6.用途展開と市場動向
6-1 精密鋳造用バインダー
6-2 CMP・電子材料用途
6-3 塗料・接着・コーティング
6-4 製紙・無機繊維分野
6-5 金属表面処理
6-6 化粧品用途
6-7 市場規模と成長分野
7.最新トピックスと将来展望
7-1 高純度・超低金属化技術
7-2 高固形分・低粘度化技術
7-3 表面改質・有機無機ハイブリッド
7-4 環境対応・サステナビリティ
7-5 次世代電子材料への展開
まとめ
質疑応答