★ パワエレ・パワーデバイスの基礎、シリコン、IGBT、SiC、GaN、酸化ガリウムパワーデバイスを俯瞰的に解説!

<AIサーバ用電源ならびに自動車の電動化に向けた>
シリコン、SiC・GaNパワーデバイス開発の最新状況と今後の動向【WEBセミナー】

アーカイブ配信付

セミナー概要
略称
パワーデバイス【WEBセミナー】
セミナーNo.
st260510
開催日時
2026年05月21日(木) 10:30~16:30
主催
サイエンス&テクノロジー(株)
問い合わせ
Tel:03-5857-4811 E-mail:info@rdsc.co.jp 問い合わせフォーム
講師
筑波大学 数理物質系 教授 岩室 憲幸 氏

<主なご経歴・研究内容など>
1984年 早稲田大学理工学部卒
1998年 博士(工学)(早稲田大学)
富士電機(株)に入社。
1988年から現在までパワーデバイスシミュレーション技術、IGBT、ならびにWBGデバイス研究、開発、製品化に従事。

1992年
 North Carolina State Univ. Visiting Scholar. MOS-gate thyristorの研究に従事。
1999年-2005年
 薄ウェハ型IGBTの製品開発に従事。
2009年5月-2013年3月
 (国研)産業技術総合研究所。SiC-MOSFET、SBDの研究,量産技術開発に従事。
2013年4月-
 国立大学法人 筑波大学 教授。現在に至る。

IEEE Senior Member, 電気学会上級会員、応用物理学会会員
著書・監修多数

<受賞>
1 日経エレクトロニクス パワーエレクトロニクスアワード2020 最優秀賞 (2020年12月)
2 電気学会 第23回優秀活動賞 技術報告賞 (2020年4月)
3 電気学会 優秀技術活動賞 グループ著作賞(2011年)

<専門>
シリコン、SiCパワー半導体設計、解析技術

<WebSite>
http://power.bk.tsukuba.ac.jp/
https://youtu.be/VjorIIacez0
価格
非会員: 44,000円(税込)
会員: 42,020円(税込)
学生: 44,000円(税込)
価格関連備考
定 価 :1名につき 44,000円(税込)
会員価格:1名につき 42,020円 2名の場合 55,000円、3名の場合 82,500円(税込)

※上記会員価格は受講者全員の会員登録が必須となります。
※同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
※他の割引は併用できません。
※請求書は主催会社より代表者のメールアドレスにご連絡いたします。
特典
アーカイブ配信について
視聴期間:【5/22~5/28】を予定しております。
※アーカイブは原則として編集は行いません。
※視聴準備が整い次第、担当から視聴開始のメールご連絡をいたします。
備考
※資料付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

【ライブ配信(Zoom使用)セミナー】
・本セミナーはビデオ会議ツール「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
 PCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
・お申し込み後、接続確認用URL(https://zoom.us/test)にアクセスして接続できるか等ご確認下さい。
・後日、別途視聴用のURLをメールにてご連絡申し上げます。
・セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
講座の内容
習得できる知識
パワー半導体デバイスならびにパッケージの最新技術動向。Si-MOSFET, IGBTの強み、SiC/GaNパワーデバイスの特長と課題。パワー半導体デバイスならびにSiC/GaN市場予測。シリコンIGBT、SiCデバイス実装技術。SiC/GaNデバイス特有の設計、プロセス技術、酸化ガリウムパワーデバイス技術など。
趣旨
 2026年、世界はAIデータセンター電源の高効率・大容量化と、自動車電動化(xEV)の再加速に向けて大きく動いている。AIサーバ電源やxEVの性能を左右する中核部品であるパワーデバイスでは、SiC・GaNデバイスが次世代の本命として急速に存在感を高めている。すでに実機搭載も進みつつあり、今後はシリコンMOSFET・IGBTをどこまで凌駕できるかが焦点となる。
 鍵を握るのは、性能・信頼性・コストという三要素に対し、新材料デバイスがどのように市場要求へ応えていくかである。
 本セミナーでは、SiC/GaN技術の現状と今後の動向を整理し、さらに注目を集める酸化ガリウム(Ga₂O₃)デバイスの可能性、実装技術、そして市場予測までを、わかりやすくかつ丁寧に解説する。
プログラム

1.パワーエレクトロニクス(パワエレ)とはなに?
 1-1 パワエレ&パワーデバイスの仕事
 1-2 パワー半導体の種類と基本構造
 1-3 パワーデバイスの適用分野
 1-4 AIデーターサーバ電源、xEV向けパワーデバイス最近のトピックス
 1-5 シリコンMOSFET・IGBTの伸長
 1-6 ノーマリ-オフ・ノーマリーオン特性とはなに?
 1-7 パワーデバイス開発のポイント

2.最新シリコンパワーMOSFETとIGBTの進展と課題
 2-1 パワーデバイス市場の現在と将来
 2-2 MOSFET特性改善を支える技術
 2-3 IGBT特性改善を支える技術
 2-4 IGBT薄ウェハ化の限界
 2-5 MOSFET・IGBT特性改善の次の一手
 2-6 シリコンIGBTの実装技術

3.SiCパワーデバイスの現状と課題
 3-1 半導体デバイス材料の変遷
 3-2 ワイドバンドギャップ半導体とは?
 3-3 なぜSiCパワーデバイスが新材料パワーデバイスでトップランナなのか
 3-4 各社はSiC-IGBTではなくSiC-MOSFETを開発する。なぜか?
 3-5 SiC-MOSFETの勝ち筋
 3-6 SiC-MOSFETの普及拡大のために解決すべき課題
 3-7 SiC MOSFETコストダウンのための技術開発
 3-8 低オン抵抗化がなぜコストダウンにつながるのか
 3-9 SiC-MOSFET内蔵ダイオードのVf劣化とは?
 3-10 内蔵ダイオード信頼性向上技術

4.GaNパワーデバイスの現状と課題
 4-1 なぜGaNパワーデバイスなのか?
 4-2 GaNデバイスの構造
 4-3 SiCとGaNデバイスの狙う市場
 4-4 GaNパワーデバイスはHEMT構造。その特徴は?
 4-5 GaN-HEMTのノーマリ-オフ化
 4-6 GaN-HEMTの最新技術動向(高耐圧化へ向けて)
 4-7 縦型GaNデバイスの最新動向

5.酸化ガリウムパワーデバイスの現状
 5-1 酸化ガリウムの特徴は何
 5-2 最近の酸化ガリウムパワーデバイスの開発状況

6.SiCパワーデバイス実装技術の進展
 6-1 SiC-MOSFETモジュールに求められるもの
 6-2 銀または銅焼結接合技術
 6-3 SiC-MOSFETモジュール技術

7.まとめ

□質疑応答□​

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