「酸化物半導体」に関する過去10年余、さらには直近2年間(最新月まで)の技術動向が分かりやすく把握できる!

特許情報分析(パテントマップ)から見た酸化物半導体
〔技術開発実態分析調査報告書〕

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商品概要
略称
酸化物半導体
商品No
bk5293
発刊日
2013年02月10日(日)
ISBN
【書籍版】 ISBN:978-4-86483-179-6 【CD-ROM版】 ISBN:978-4-86483-189-5
体裁
【書籍版】 A4版、全248頁、簡易製本 【CD-ROM版】 書籍(PDF)とパテントマップViewer(閲覧ソフト)およびパテントマップ・チャート(パテントマップEXZデータ)が収録されています。
価格
58,800円(税込)
送料
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価格関連備考
書籍版:58,800円(送料・税込み)
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発行
(株)パテントテック社
問い合わせ
(株)R&D支援センター TEL:03-5857-4811 MAIL:info@rdsc.co.jp
書籍の内容

1.調査目的
 「酸化物半導体」に関する公開件数、出願人(共同出願人)、発明者、特許分類、キーワードなどに対し、ランキング、時系列推移、技術分布図など様々な観点から分析したパテントマップおよび、パテントチャートを作成し、

 (1)どの酸化物半導体関連企業にどのような技術の公開があるか、

 (2)各企業の技術開発動向はどのように推移して いるか、

 (3)最近10年間における関連技術の消長はどのようになっているか、

 (4)各企業間の連携状況はどのようになっているか、

 (5)直近2年間における企業及び技術の注目すべき動向は何か、

 (6)各企業がどの弁理士(特許事務所)を利用しているか、

等を明確にして、知財の現状に付き具体的データを提供し、今後の開発の指針決定に役立てようとするものである。



2.特許情報の収集方法
 本調査報告書は、「酸化物半導体」に関する最近10年余(国内公開日:2003年1月1日~2012年11月30日)に及ぶ公開特許について、特許検索ASPサービスSRPARTNER」((株)日立システムズ 製)を使用し、検索、収集した。また、報告書作成には、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」(インパテック(株)製)を使用した。

特許情報公報の総数は 3,990件 である。



3.報告書の構成
 本報告書は、以下の3つの部分から構成されている。

1.パテントマップ編

 A.全般分析

 B.上位20出願人比較分析

 C.上位5出願人個別分析

 D.特定2社比較分析(1位半導体エネルギー研究所、4位シャープ)

 E.上位20特許分類分析

 F.特定特許分類分析

 G.キーワード分析(発明の名称、要約、請求の範囲から抽出)

 H.直近2年間の動向分析(2010年12月~2012年11月)

 I.弁理士(特許事務所)の動向分析

2.パテントチャート編
3.総括コメント


4. 本報告書の特徴
● 「酸化物半導体」に関する最近10年余、さらには直近2年間(最新月まで)の技術動向が分かりやすく把握できる

● 本技術分野に関係する弁理士(特許事務所)の動静が読み取れる

● パテントマップおよびパテントチャートで視覚的に理解しやすい 



はじめに
調査分析結果
1.パテントマップ編
A.全般分析
 A-1.全体の技術開発ライフサイクル

 A-2.公開件数の推移(年次と累計)

 A-3.出願人数の推移(年次と累計)

 A-4.新規発明者数の推移(年次と累計)

 A-5.新規FIメイングループ分類数の推移(年次と累計)

 A-6.新規FIサブグループ分類数の推移(年次と累計)

 A-7.新規Fターム分類数の推移(年次と累計)

 A-8.出願人別公開件数ランキング(上位100)

 A-9.発明者別公開件数ランキング(上位50)

 A-10.FIメイングループ分類別公開件数ランキング(上位50)

 A-11.FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位100)

 A-12.Fタームテーマコード分類別公開件数ランキング(上位50)

 A-13.Fターム分類別公開件数ランキング(上位100)

 A-14.1位Fタームテーマコード(5F110)の技術分類別件数(観点×数字)

 A-15.2位Fタームテーマコード(5F151)の技術分類別件数(観点×数字)

 A-16.出願人別参入・撤退状況(最近40、公開件数5件以上)

 A-17.FIメイングループ分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)

 A-18.FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)

 A-19.Fターム分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)

 A-20.出願人別公開件数伸長率(上位50、件数差7件以上)

 A-21.発明者別公開件数伸長率(上位50、件数差19件以上)

 A-22.FIメイングループ分類別公開件数伸長率(上位50、件数差6件以上)

 A-23.FIサブグループ分類別公開件数伸長率(上位50、件数差10件以上)

 A-24.Fターム分類別公開件数伸長率(上位50、件数差100件以上)

 A-25.FIメイングループ分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差15名以上)

 A-26.FIサブグループ分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差30名以上)

 A-27.Fターム分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差100名以上)



B.上位20出願人比較分析
 B-1.公開件数比較(2003年~2007年 VS 2008年~2012年)

 B-2.公開件数の推移(累計)

 B-3.共同出願人数の推移(累計)

 B-4.新規発明者数の推移(累計)

 B-5.新規FIメイングループ分類数の推移(累計)

 B-6.新規FIサブグループ分類数の推移(累計)

 B-7.新規Fターム分類数の推移(累計)

 B-8.新規キーワード数の推移(累計)

 B-9.上位20FIメイングループ分類との公開件数相関

 B-10.上位20FIサブグループ分類との公開件数相関

 B-11.上位20Fターム分類との公開件数相関

 B-12.上位2Fタームテーマコード分類における公開件数比較

 B-13.公開件数占有率

 B-14.審査・権利状況

 B-15.公開件数の伸びと1位Fターム分類[5F110GG01]に関する構成率比較

 B-16.発明者数*FIサブグループ分類数の比較



C.上位5出願人個別分析
 C-1-1.【半導体エネルギー研究所】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)

 C-1-2.【フジクラ】FIサブグループ分類別公開件数ランキング

 C-1-3.【富士フイルム】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)

 C-1-4.【シャープ】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)

 C-1-5.【大日本印刷】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)

 C-2-1.【半導体エネルギー研究所】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)

 C-2-2.【フジクラ】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)

 C-2-3.【富士フイルム】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)

 C-2-4.【シャープ】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)

 C-2-5.【大日本印刷】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)

 C-3-1.【半導体エネルギー研究所】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)

 C-3-2.【フジクラ】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)

 C-3-3.【富士フイルム】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)

 C-3-4.【シャープ】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)

 C-3-5.【大日本印刷】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)

 C-4-1.【半導体エネルギー研究所】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)

 C-4-2.【フジクラ】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)

 C-4-3.【富士フイルム】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)

 C-4-4.【シャープ】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)

 C-4-5.【大日本印刷】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)

 C-5-1.【半導体エネルギー研究所】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)

 C-5-2.【フジクラ】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近35)

 C-5-3.【富士フイルム】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)

 C-5-4.【シャープ】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)

 C-5-5.【大日本印刷】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)

 C-6-1.【半導体エネルギー研究所】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)

 C-6-2.【フジクラ】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)

 C-6-3.【富士フイルム】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)

 C-6-4.【シャープ】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)

 C-6-5.【大日本印刷】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)

 C-7-1.【半導体エネルギー研究所】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング

 C-7-2.【フジクラ】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング

 C-7-3.【富士フイルム】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング

 C-7-4.【シャープ】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング

 C-7-5.【大日本印刷】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング

 C-8-1.【半導体エネルギー研究所】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)

 C-8-2.【フジクラ】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)

 C-8-3.【富士フイルム】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)

 C-8-4.【シャープ】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)

 C-8-5.【大日本印刷】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)

 C-9-1.【半導体エネルギー研究所】共同出願人:0人

 C-9-2.【フジクラ】共同出願人との連携

 C-9-3.【富士フイルム】共同出願人:0人

 C-9-4.【シャープ】共同出願人との連携

 C-9-5.【大日本印刷】共同出願人との連携



D.特定2社比較分析(1位半導体エネルギー研究所、4位シャープ)
 D-1.2社の上位10FIサブグループ分類別公開件数の推移(年次)

 D-2.2社の上位10Fターム分類別公開件数の推移(年次)

 D-3.2社の半導体エネルギー研究所上位10FIサブグループ分類別公開件数比較

 D-4.2社のシャープ上位10FIサブグループ分類別公開件数比較

 D-5.2社のFIサブグループ分類別出現・消失状況(公開件数上位20)

 D-6.2社のFターム分類別出現・消失状況(公開件数上位20)

 D-7.半導体エネルギー研究所の公開件数伸び変遷

 D-8.シャープの公開件数伸び変遷

 D-9.2社とFターム分類(上位20)との公開件数相関

 D-10.Fターム分類別公開件数グロスランキング(上位10)



E.上位20特許分類分析
 E-1.FIメイングループ分類別公開件数比較(上位20)(2003年~2007年VS 2008年~2012年)

 E-2.FIサブグループ分類別公開件数比較(上位20)(2003年~2007年VS 2008年~2012年)

 E-3.Fターム分類別公開件数比較(上位20)(2003年~2007年VS 2008年~2012年)

 E-4.FIメイングループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)

 E-5.FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)

 E-6.Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)

 E-7.FIメイングループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)

 E-8.FIサブグループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)

 E-9.Fターム分類別出願人数の推移(上位20、年次)

 E-10.FIメイングループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)

 E-11.FIサブグループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)

 E-12.Fターム分類別発明者数の推移(上位20、年次)

 E-13.FIメイングループ分類別公開件数占有率(公開件数上位20)

 E-14.FIサブグループ分類別公開件数占有率(公開件数上位20)

 E-15.Fターム分類別公開件数占有率(公開件数上位20)



F.特定特許分類分析
 F-1.特定特許分類分析(1)

  F-1-1.特定FIサブグループ分類の公開件数の推移(年次)

  F-1-2.特定FIサブグループ分類の上位20出願人別公開件数の推移(年次)

  F-1-3.特定Fターム分類の公開件数の推移(年次)

  F-1-4.特定Fターム分類の上位20出願人別公開件数の推移(年次)

  F-1-5.特定FIサブグループ分類の新規出願人数の推移(年次)

  F-1-6.特定Fターム分類の新規出願人数の推移(年次)

  F-1-7.特定FIサブグループ分類の新規発明者数の推移(累計)

  F-1-8.特定Fターム分類の新規発明者数の推移(累計)

  F-1-9.特定FIサブグループ分類H01L29/78の公開件数伸長率変遷

  F-1-10.特定FIサブグループ分類H01L31/04の公開件数伸長率変遷

  F-1-11.特定Fターム分類5F110GG01の公開件数伸長率変遷

  F-1-12.特定Fターム分類5F151AA14の公開件数伸長率変遷

  F-1-13.特定FIサブグループ分類H01L29/78の出願人別公開件数ランキング(上位50)

  F-1-14.特定FIサブグループ分類H01L31/04の出願人別公開件数ランキング(上位50)

  F-1-15.特定Fターム分類5F110GG01の出願人別公開件数ランキング(上位50)

  F-1-16.特定Fターム分類5F151AA14の出願人別公開件数ランキング(上位50)

 F-2.特定特許分類分析(2)

  F-2-1.特定Fターム分類5F110GG関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)

  F-2-2.特定Fターム分類4M104AA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)

  F-2-3.特定Fターム分類4M104BB関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)

  F-2-4.特定Fターム分類5F083JA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)

  F-2-5.特定Fターム分類5F110GG関連の公開件数の推移(年次)

  F-2-6.特定Fターム分類4M104AA関連の公開件数の推移(年次)

  F-2-7.特定Fターム分類4M104BB関連の公開件数の推移(年次)

  F-2-8.特定Fターム分類5F083JA関連の公開件数の推移(年次)

  F-2-9.特定Fターム分類5F110GG関連と4M104AA関連との公開件数相関

  F-2-10.特定Fターム分類5F110GG関連と4M104BB関連との公開件数相関

  F-2-11.特定Fターム分類5F110GG関連と5F083JA関連との公開件数相関

  F-2-12.特定Fターム分類4M104AA関連と4M104BB関連との公開件数相関

  F-2-13.特定Fターム分類4M104AA関連と5F083JA関連との公開件数相関

  F-2-14.特定Fターム分類4M104BB関連と5F083JA関連との公開件数相関

  F-2-15.特定Fターム分類5F110GG関連と上位20出願人との公開件数相関

  F-2-16.特定Fターム分類4M104AA関連と上位20出願人との公開件数相関

  F-2-17.特定Fターム分類4M104BB関連と上位20出願人との公開件数相関

  F-2-18.特定Fターム分類5F083JA関連と上位20出願人との公開件数相関

  F-2-19.特定Fターム分類5F110GG関連の公開件数伸長率変遷

  F-2-20.特定Fターム分類4M104AA関連の公開件数伸長率変遷

  F-2-21.特定Fターム分類4M104BB関連の公開件数伸長率変遷

  F-2-22.特定Fターム分類5F083JA関連の公開件数伸長率変遷



G.キーワード分析
 G-1.キーワード別公開件数ランキング(上位100)

 G-2.キーワード別出現・消失状況(最近80、公開件数10件以上)

 G-3.キーワード別公開件数の伸長率(上位50、件数差60件以上)



H.直近2年間の動向分析(2010年12月~2012年11月)
 H-1.出願人別公開件数ランキング(上位20)

 H-2.出願人別公開件数占有率(上位20)

 H-3.FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位20)

 H-4.FIサブグループ分類1位H01L29/78と他分類との相関

 H-5.Fターム分類別公開件数ランキング(上位20)

 H-6.Fターム分類1位5F110GG01と他分類との相関(上位20)

 H-7.上位20出願人と上位20FIサブグループ分類との公開件数相関

 H-8.上位20出願人と上位20Fターム分類との公開件数相関



I.弁理士(特許事務所)の動向分析
 I-1.弁理士(特許事務所)別公開件数ランキング(上位40)

 I-2.弁理士(特許事務所)別公開件数の推移(上位40、年次)

 I-3.上位40弁理士(特許事務所)と上位20FIメイングループ分類との公開件数相関

 I-4.上位40弁理士(特許事務所)と上位40出願人との公開件数相関



2. パテントチャート編
 (1)東京工業大学の時系列チャート分析(2003年~2012年)

 (2)ルネサスエレクトロニクスの時系列チャート分析(2003年~2012年)

 (3)東京工業大学の上位3FIメイングループ分類と上位3発明者のマトリクスチャート分析(2003年~2012年)

 (4)ルネサスエレクトロニクスの上位3FIメイングループ分類と上位3発明者のマトリクスチャート分析(2003年~2012年)



3. 総括コメント
<参考資料>

【資料1】出願人統合リスト

【資料2】半導体エネルギー研究所の2012年1月~11月における全公報244件の審査権利状況リスト

【資料3】パテントマップ・パテントチャートの種別と見方
 

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酸化物半導体,特許,パテント,書籍
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